나노 패턴 공정기술
| 연구책임자 | 최대근 |  |
| 소속 | 한국기계연구원 | |
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| 강의개요 | 전자 제품의 소형화와 집적화에 따라 보다 많은 정보를 저장하기 위해서는 마이크로 또는 나노미터의 패턴공정이 필요하다. 지금까지는 주로 이러한 패턴을 제조하기 위해서 주로 포토 리소그래피를 이용하였다. 그러나 포토 리소그래피는 빛의 회절 현상과 간섭에 의해 구현할 수 있는 선폭이 제한적이며 이로 인해 극미세의 패턴을 제조하기 위해 전자빔 리소그래피 등의 방법이 도입되었다. 하지만 이러한 방법들은 포토 리소그래피에 비해 보다 긴 공정 시간과 보다 많은 비용이 소요되는 단점을 가지고 있다. 본 사업에서는 일반적인 광식각공정의 대안으로 주목받고 있는 나노 임프린트 공정 및 소프트 리소그래피등과 자기조립 나노 패턴 및 구조물제작 공정에 대한 연구정보를 제공하여 이 분야에 연구자에게 도움이 되고자 한다. |
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