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Korean Journal of Materials Research

Korean Journal of Materials Research, Vol.12, No.11, November, 2002 Entire volume, number list
ISSN: 1225-0562 (Print) 

In this Issue (12 articles)

835 - 839 졸-겔법으로 Pt/Ti/SiO 2 /Si 기판위에 제작된 (Bi,La)Ti 3 O 12 강유전체 박막의 특성 연구
Charaterization of (Bi,La)Ti 3 O 12 Ferroelectric Thin Films on Pt/Ti/SiO 2 /Si Substrates by sol-gel Method

황선환, 장호정
840 - 844 다단 침전법에 의한 구형 BaMgAl 10 O 17 :Eu 형광체의 제조 및 특성
Preparation and Properties of Spherical BaMgAl 10 O 17 :Eu Phosphor by Multi-step Precipitation Method

박정민, 정하균, 박희동, 박윤창
845 - 849 Fe 3 Al, Fe 3 Al-Cr, Fe 3 Al-Cr-Mo, Ni 3 Al 및 Ni 3 Al-Cr 합금표면에 형성된 산화물 특성분석
Characterization of Oxide Scales Formed on Fe 3 Al, Fe 3 Al-Cr, Fe 3 Al-Cr-Mo, Ni 3 Al and Ni 3 Al-Cr Alloys

심웅식, 이동복
850 - 855 기상반응(CVD)법 의한 실리카 미분말의 제조
Preparation of Ultrafine Silica Powders by Chemical Vapor Deposition Process

최은영, 이윤복, 신동우, 김광호
856 - 859 열처리가 알루미나 나노기공의 배열에 미치는 영향
Effects of Heat Treatments of Aluminum Substrate on Nanopore Arrays in Anodic Alumina

조수행, 오한준, 김성수, 주은균, 유창우, 지충수
860 - 864 이온교환형 리튬망간산화물의 리튬이온 용출특성 및 전자상태
Li + Extraction Reactions with Ion-exchange type Lithium Manganese Oxide and Their Electronic Structures

김양수, 정강섭, 이재천
865 - 869 티타늄과 코발트 박막의 산화규소 스페이서에 대한 열적안정성
Thermal Stability of Titanium and Cobalt Thin Films on Silicon Oxide Spacer

정성희, 송오성, 김민성
870 - 874 Mg 2 SiO 4 열형광체의 소결공정과 자외선 선량에 대한 TL 특성에 관한 연구
A Study on The Fabrication of The Sintering Process and The Thermoluminescence Properties of UV Dose about The Mg 2 SiO 4 Thermoluminescent Phosphors

김영국, 손인호, 김일홍, 송재흥, 도시홍, 강희동
875 - 879 Pb 1-x Cd x I 2 단결정의 구조적 광학적 특성 연구
A Study on Structural and Optical Properties of Pb 1-x Cd x I 2 Single Crystals

송호준, 최성길, 김화택
880 - 882 열처리가 FeSiB 연자성 박막의 자기특성에 미치는 영향
Effect of Heat Treatment on The Magnetic Properties of FeSiB Thin Film

홍종욱, 장태석, 박종완
883 - 888 복합 티타늄실리사이드 공정에서 발생한 공극 생성 연구
Void Defects in Composite Titanium Disilicide Process

정성희, 송오성
889 - 893 Cu/Ti/SiO 2 /Si 구조에서 Ti 층 두께가 Ti 반응에 미치는 효과
Effects of Ti Thickness on Ti Reactions in Cu/Ti/SiO 2 /Si System upon Annealing

홍성진, 이재갑