반도체 양자점을 이용한 단전자 소자 분야는 나노기술의 부각과 함계 매우 주목받는 분야로서 단전자 소자를 기반으로 한 메모리, 양자점 내의 전자들의 스핀을 이용한 양자연산 등에 관한 응용연구가 홀발히 진행되고 있다. 이러한 양자점 소자의 제조는 분자빔 에픽텍시 과정에서 박막생장 조건을 조절함으로써 형성될 수 있는 자발형성 양자점과 나노패터닝을 이용하여 인위적으로 전자의 고립구조를 제작하여 만들어지는 양자점으로 크게 나누어 질 수 있다. 본 고에서는 전자계 위에 제작된 인위적으로 조절 가능한 양자점 구조와 나노수준의 물질의 제조에 요구되는 전자빔 리소그래피와 물리적으로 실리콘 칩이나 기타 기판에 나노크기의 패턴을 제작하는 나노임프린팅 기술분야에 대한 기술문헌정보와 특허 정보에 대한 계량적 정보분석을 통하여 나노패터닝 기술의 연구개발 동향을 고찰하였다.