Polymer(Korea), Vol.14, No.4, 378-384, August, 1990
Perfluoropropene의 Plasma중합
Plasma Polymerization of Perfluoropropene
초록
길고 가는 튜브형 반응기를 사용하여 perfluoropropene(PFP)을 polyethylene(PE) 기질에 플라즈마중합 하였다. 방전출력을 달리 했을때 PE 표면에 석출된 중합박막의 화학적 조성을 조사하기 위하여 ESCA스펙트럼이 이용되었다. 방전출력이 증가함에 따라서 CF2기와 CF3기가 증가하였으며 teflon-like한 표면을 얻을 수 있었다. 비발광지역에서 방전출력이 충분히 낮을때 중합반응기구는 주로 부가반응에 의해서 진행되어지는 것으로 생각되며 발광지역에서는 원자중합개념으로 해석되었다. 중합박막의 두께도 방전출력의 영향을 받는데 방전출력이 증가함에 따라서 환산 두께가 점차 감소하였으며 삭마반응이 심하게 됨을 알 수 있었다.
Perfluoropropene(PFP) was plasma-polymerized on polyethylene(PE) surface using long and slender tubular reactor. ESCA spectra were used to characterize the surface of PE exposed to PFP plasma at different discharge powers. With increasing discharge power, the intensities of CF2 and CF3 group increased and teflon-like coatings could be obtained. At sufficiently low discharge power in nonglow region, the plasma polymerization was considered to proceed via addition reaction. In glow region, however, it was considered to proceed via atomic polymerization concept. The thickness of PFP plasma polymer was affected by discharge power. With increasing discharge power, the reduced thickness of coating decreased gradually and ablation reaction became severe.
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