화학공학소재연구정보센터
홈 로그인 로그아웃 연락처 사이트맵
Korean Chemical Engineering Research, Vol.49, No.5, 611-616, October, 2011
Export Citation
어닐링 온도에 따른 무배향 PLA 필름의 등온결정화 거동과 표면물성에 관한 연구
Study on Isothermal Crystallization Behavior and Surface Properties of Non-Oriented PLA Film with Annealing Temperature
김지혜, 김문선1, †, 김병우
  • 성균관대학교 화학공학과, 440-746 경기도 수원시 장안구 천천동 300
  • 1성균관대학교 바이오/나노융합재료연구단, 440-746 경기도 수원시 장안구 천천동 300
Jihye Kim, Moon-Sun Kim1, †, and Byung-Woo Kim
  • Department of Chemical Engineering, Sungkyunkwan University, 300 Chunchun-dong , Jangan-gu, Suwon, Gyeonggi 440-746, Korea
  • 1Bio/Nano-Fusion Material Research Center, Sungkyunkwan University, 300 Chunchun-dong, Jangan-gu, Suwon, Gyeonggi 440-746, Korea
E-mail:
초록
본 연구에서는 무배향 PLA 필름의 어닐링(annealing) 단계를 통하여 온도별 PLA 필름의 avrami 결정화 속도식을 도출하고 결정화 속도상수(k)를 비교함으로써 최적화된 어닐링 온도를 제안하였다. 120, 130, 140 ℃ 온도에서 결정화된 필름의 결정화 속도상수(k)는 각각 1.64, 1.68, 1.26이었다. 필름표면에 대한 어닐링은 필름의 표면조도와 동마찰계 수에 영향을 주는데 80, 110, 120, 130, 140 ℃의 온도조건에서 표면조도(Ra)는 각각 0.006, 0.009, 0.015, 0.027, 0.029 μm로 높아졌고 동마찰계수(μk)는 0.45, 0.43, 0.33, 0.31, 0.27로 낮아졌다. 탈크를 1, 3, 5 wt%씩 첨가하는 경우 PLA 필름의 결정화 속도상수(k)는 0.58, 0.46, 0.39로 낮아졌다.
In the study, annealing temperature was optimized by comparing with avrami crystallization rate and constant (k) using non-oriented PLA film as a base film. Crystallization rate constant of PLA film was 1.64, 1.68, and 1.26 at 120 ℃, 130 ℃, and 140 ℃, respectively. Annealing temperature was mainly affected on the surface properties such as rougnness (Ra) and kinetic friction coefficient (μk). Roughness of PLA film was 0.006 μm at 80 ℃ and increased to 0.009 μm, 0.015 μm, 0.027 μm, and 0.029 μm at 110 ℃, 120 ℃, 130 ℃ and 140 ℃, respectively. Kinetic friction coefficient decreased 0.45 to 0.43, 0.33, 0.31, 0.27 as annealing temperature was at 80 ℃, 110 ℃, 120 ℃, 130 ℃, and 140 ℃, respectivly. In addition, rate constant (k) was 0.58, 0.46, and 0.39 with adding 1 wt%, 3 wt%, and 5 wt% talc, respectively.
Keywords:Non-Oriented PLA Film;Annealing Temperature;Avrami Equation;Isothermal Crystallization Behavior;Talc