화학공학소재연구정보센터
번호 제목
3 Cu CMP slurry 개발을 위한 첨가제 영향성 연구
김영준, 김재정
한국화학공학회 2008년 가을 학술대회
2 In-situ Formation of Capping Layer in Cu Chemical Mechanical Polishing
강민철, 김영준, 남호성, 김재정
한국화학공학회 2007년 가을 학술대회
1 Cu-CMP에서 슬러리 첨가제에 따른 Cu와 TaN의 선택비 거동|Effect of Additive on Cu/TaN Selectivity in Cu-CMP
홍석훈, 송 철, 김재욱, 김민석, 박재근
한국재료학회 2005년 봄 학술대회