| 번호 | 제목 |
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RCA 반도체 습식 세정 공정 중 오존을 이용한 SC1 세정을 위한 최적화 연구|The Study of Optimized Process Condition using Ozone for SC1 Solution in RCA Wet Cleaning Process 이승호, 이상호, 김규채, 권태영, 박진구, 배소익, 김인정, 이건호 한국재료학회 2005년 가을 학술대회 |
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반도체 습식 세정 공정중 SC1 세정 용액에 킬레이팅 에이전트 첨가에 의한 오염 입자와 금속 오염물 제거 효과|Removal of Particles and Metal Impurities by adding of Chelating Agent onto SC1 Cleaning Solution in Semiconductor Wet Cleaning Process 이승호, 이상호, 권태영, 박진구, 배소익, 김인정, 이건호 한국재료학회 2005년 봄 학술대회 |
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질소도핑된 P/P- Epitaxial Silicon Wafer의 slip 및 강도 평가|Evaluation of Slip and Strength of Nitrogen doped P/P- Epitaxial Silicon Wafers 최은석, 배소익, 정진수 한국재료학회 2004년 가을 학술대회 |
