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Etching of SiO2 in an inductively coupled plasma using hexafluoroisopropanol
이유종, 김창구
한국화학공학회 2022년 봄 학술대회 |
| 12 |
Effects of O2 addition on etching process in heptafluoropropyl methyl ether plasmas
이유종, 김창구
한국화학공학회 2021년 가을 학술대회 |
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Etching characteristics of SiO2 in heptafluoropropyl methyl ether and pentafluoropropanol plasmas
이유종, 김준현, 김창구
한국화학공학회 2021년 봄 학술대회 |
| 10 |
Reduction of contact hole diameter by alternating etching and deposition using a fluorocarbon plasma
조성운, 김준현, 김창구
한국화학공학회 2011년 가을 학술대회 |
| 9 |
The role of steady-state fluorocarbon film during SiO2 etching in C4F6/Ar/O2/CH2F2 plasmas
조성운, 김창구
한국화학공학회 2011년 봄 학술대회 |
| 8 |
Control of the contact hole diameter using inductively coupled fluorocarbon and hydrocarbon plasmas
김준현, 조성운, 김창구
한국화학공학회 2011년 봄 학술대회 |
| 7 |
Angular dependence of SiO2 etch rates in C4F6/Ar/O2 and C4F6/Ar/O2/CH2F2 plasmas
조성운, 김창구
한국화학공학회 2010년 봄 학술대회 |
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Angular dependence of Si3N4 etch rates and SiO2 to Si3N4 etch selectivity in a C4F6/Ar/O2/CH2F2 plasma
조성운, 이진관, 문상흡, 김창구
한국화학공학회 2009년 가을 학술대회 |
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Characteristics of fluorocarbon films deposited in perfluorocarbon and unsaturated fluorocarbon plasmas
조성운, 지정민, 김창구
한국화학공학회 2009년 봄 학술대회 |
| 4 |
Characteristics of Fluorocarbon Thin Films Deposited in C4F8 and C4F6 Plasmas
권혁규, 지정민, 김창구
한국화학공학회 2008년 가을 학술대회 |
