화학공학소재연구정보센터
번호 제목
4 CF4 plasma를 이용한 MoS2 thin film 식각 방법
윤덕현, 전민환, 염근영
한국재료학회 2015년 봄 학술대회
3 Layer by Layer Control of MoS2 Film through Atomic Layer Etching System
임태철, 전민환, 염근영
한국재료학회 2014년 가을 학술대회
2 Puled Plasma를 이용하여60 MHz/2 MHz Dual-Frequency Capacitive coupled plasma에서 SiO2의 식각특성에 관한 연구
염근영, 전민환, 김회준
한국재료학회 2013년 봄 학술대회
1 유도결합플라즈마에서 CO/NH3가스를 이용한 Magnetic Tunneling Junction(MTJ) layer 식각
김성희, 전민환, 염근영
한국재료학회 2012년 봄 학술대회