화학공학소재연구정보센터
번호 제목
8 The effect of terminal benzyl group on leveler in TSV filling process
전현우, 김명준, 김재정
한국화학공학회 2021년 봄 학술대회
7 마이크로비아 채움에서 TEG-Based 평탄제 말단 작용기의 구조적 영향
김정아, 김명현, 이윤재, 김재정, 김영규
한국공업화학회 2021년 가을 학술대회
6 Cyclic voltammetric stripping analysis to monitor concentration of leveler component in Cu plating bath
윤 영, 김태영, 함유석, 김회철, 김재정
한국화학공학회 2017년 봄 학술대회
5 구리전해도금에서 평탄제 구조가 미치는 영향
이윤재, 이명현, 김재정, 김영규
한국공업화학회 2017년 가을 학술대회
4 새로운 평탄제의 합성과 구리전해도금에서 그 구조에 따른 영향 분석
이윤재, 이병일, 김남태, 이명현, 김재정, 김영규
한국공업화학회 2017년 봄 학술대회
3 Additives for the Bottom-up Copper Electrodeposition in Through-Silicon-Vias
김재정
한국화학공학회 2016년 가을 학술대회
2 Effects of benzotriazole and its derivatives on electrodeposited Cu film properties according to nitrogen atom numbers in azole group
김회철, 김명준, 최승회, 서혁진, 김수길, 김재정
한국화학공학회 2012년 가을 학술대회
1 반도체 배선용 구리 전해 도금에 있어 유기 첨가제를 이용한 과전착 조절 공정
황순식, 조성기, 김수길, 김재정
한국화학공학회 2005년 봄 학술대회