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Angular dependence of etch rates in fluoro-ether/O2/Ar plasmas
유상현, 김창구
한국화학공학회 2021년 가을 학술대회 |
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Angular dependence of SiO2 etch rates in hydrofluoroalcohol-containing plasmas
선은재, 김창구
한국화학공학회 2021년 가을 학술대회 |
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Highly Sensitive and Stress-Direction-Recognizing Asterisk-Shaped Carbon Nanotube Strain Sensor
이화성
한국고분자학회 2019년 봄 학술대회 |
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Molecular Dynamic Simulation for Contact Hole Etching Process under Fluorocarbon plasma
육영근, 유혜성, 최광성, 유동훈, 장원석, 임연호
한국화학공학회 2017년 봄 학술대회 |
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Effect of bias voltage on the angular dependence of SiO2 etch rates in fluorocarbon plasmas
박정근, 김준현, 김창구
한국화학공학회 2016년 봄 학술대회 |
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Etch mechanism of Si3N4 in a C4F6/Ar/O2/CH2F2 plasma
조성운, 김준현, 김창구
한국화학공학회 2015년 봄 학술대회 |
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Angular dependence of Si3N4 etch rates in fluorocarbon plasmas
김준현, 조성운, 김창구
한국화학공학회 2015년 봄 학술대회 |
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Effect of bias voltage on the angular dependence of SiO2 etch rates in C4F8 plasmas
김준현, 조성운, 김창구
한국화학공학회 2015년 봄 학술대회 |
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Effect of gas composition on the angular dependence of SiO2 etch rates in fluorocarbon plasmas
박정근, 김준현, 조성운, 김창구
한국화학공학회 2015년 봄 학술대회 |
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Angular dependence of SiO2 etch rate in fluorocarbon plasmas
김준현, 조성운, 김창구
한국화학공학회 2014년 가을 학술대회 |
