화학공학소재연구정보센터
번호 제목
47 Etching of SiO2 in inductively coupled plasmas using heptafluoropropyl methyl ether and perfluoropropyl carbinol
선은재, 김창구
한국화학공학회 2022년 봄 학술대회
46 Etching characteristics of fluoroether/fluoroalcohol/Ar plasmas
유상현, 김준현, 김창구
한국화학공학회 2021년 봄 학술대회
45 Effect of mixing ratio in SiO2 etching using hydrofluoroether plasmas
선은재, 김준현, 김창구
한국화학공학회 2021년 봄 학술대회
44 Hydrofluoroether 플라즈마를 이용한 SiO2 식각
유상현, 김창구
한국화학공학회 2020년 봄 학술대회
43 Novel Discoveries on sH hydrate forming F-gases
김은애, 최준환, 서용원
한국화학공학회 2019년 봄 학술대회
42 Plasma etching of SiO2 using perfluoropropyl vinyl ether
박진수, 김준현, 김창구
한국화학공학회 2019년 봄 학술대회
41 C7F14 플라즈마를 이용한 SiO2, Si3N4의 식각 연구
탁현우, 성다인, 양경채, 김수강, 김동우, 염근영
한국재료학회 2018년 가을 학술대회
40 GWP가 낮은 C3F6O/Ar 가스를 이용한 친환경 SiO2 식각 연구
김수강, 양경채, 신예지, 성다인, 탁현우, 염근영
한국재료학회 2018년 봄 학술대회
39 Discovery of a gaseous sH hydrate former through phase equilibria and structure identification
김은애, 서용원
한국화학공학회 2018년 봄 학술대회
38 Dependence of SiO2 etch rates on the ion-incident angle at various bias voltages in a C4F8 plasma
박창진, 김창구
한국화학공학회 2017년 봄 학술대회