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ESG Initiatives in Semiconductor Materials: Next Gen. Etching Gas with Low Global Warming Potential 김오현 한국화학공학회 2022년 봄 학술대회 |
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Etching of SiO2 in an inductively coupled plasma using hexafluoroisopropanol 이유종, 김창구 한국화학공학회 2022년 봄 학술대회 |
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Etching of SiO2 in inductively coupled plasmas using heptafluoropropyl methyl ether and perfluoropropyl carbinol 선은재, 김창구 한국화학공학회 2022년 봄 학술대회 |
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SiO2 contact hole etching using heptafluoropropyl methyl ether/pentafluoropropanol/O2/Ar plasmas 유상현, 김창구 한국화학공학회 2022년 봄 학술대회 |
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Life Cycle Assessment of Green Hydrogen Supply Pathways 유준, Malik Sajawal Akhtar 한국화학공학회 2021년 가을 학술대회 |
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Integrated Material and Process Multi-Scale Evaluation of Metal-organic Frameworks Database for Energy-efficient SF6/N2 Separation 차재훈, 정용철 한국화학공학회 2021년 가을 학술대회 |
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Angular dependence of etch rates in fluoro-ether/O2/Ar plasmas 유상현, 김창구 한국화학공학회 2021년 가을 학술대회 |
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Effects of O2 addition on etching process in heptafluoropropyl methyl ether plasmas 이유종, 김창구 한국화학공학회 2021년 가을 학술대회 |
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Angular dependence of SiO2 etch rates in hydrofluoroalcohol-containing plasmas 선은재, 김창구 한국화학공학회 2021년 가을 학술대회 |
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Etching characteristics of fluoroether/fluoroalcohol/Ar plasmas 유상현, 김준현, 김창구 한국화학공학회 2021년 봄 학술대회 |