화학공학소재연구정보센터
번호 제목
11 EUV photomask의 ozonated deionized water (DIO3) 세정 후Ru capping layer의 표면 변화 연구
서동완, 배진성, 정준의, 임상우
한국화학공학회 2011년 봄 학술대회
10 High-k/capping layer의 Gate Stack Etch Post Cleaning 연구
오지숙, 임경택, 윤미현, 임상우
한국화학공학회 2010년 봄 학술대회
9 포토마스크 헤이즈 형성 방지를 위한 DIO3 세정 공정 조건
양자현, 임경택, 윤미현, 임상우
한국화학공학회 2009년 가을 학술대회
8 Ge 표면상에 생성되는 GeO2 층의 에칭에 관한 연구
임경택, 윤미현, 양자현, 임상우
한국화학공학회 2009년 가을 학술대회
7 MIR FT-IR을 이용한 Si표면의 파티클 정량화 방법
양자현, 임경택, 정주영, 임상우
한국화학공학회 2009년 봄 학술대회
6 요오드를 용해시킨 메탄올을 이용한 Ge(100) 표면의 산화
이영환, 박기병, 임경택, 임상우
한국화학공학회 2008년 가을 학술대회
5 자기조립단분자막 (SAM)을 이용한 표면 종단 형성
박기병, 이영환, 임경택, 임상우
한국화학공학회 2008년 가을 학술대회
4 Characteristics of Methoxy-terminated Ge Surface with Formation Condition and Passivation to Oxidation in Air Ambient
이영환, 임상우, 박기병
한국화학공학회 2008년 봄 학술대회
3 Modification of Hydrogen-terminated Ge surface to Cl-terminated Ge Surface
박기병, 임상우
한국화학공학회 2007년 가을 학술대회
2 Oxidation Mechanism of Hydrogen-terminated Ge(100) Surface in Air Ambient and H2O
박기병, 임상우
한국화학공학회 2007년 가을 학술대회