번호 | 제목 |
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11 |
EUV photomask의 ozonated deionized water (DIO3) 세정 후Ru capping layer의 표면 변화 연구 서동완, 배진성, 정준의, 임상우 한국화학공학회 2011년 봄 학술대회 |
10 |
High-k/capping layer의 Gate Stack Etch Post Cleaning 연구 오지숙, 임경택, 윤미현, 임상우 한국화학공학회 2010년 봄 학술대회 |
9 |
포토마스크 헤이즈 형성 방지를 위한 DIO3 세정 공정 조건 양자현, 임경택, 윤미현, 임상우 한국화학공학회 2009년 가을 학술대회 |
8 |
Ge 표면상에 생성되는 GeO2 층의 에칭에 관한 연구 임경택, 윤미현, 양자현, 임상우 한국화학공학회 2009년 가을 학술대회 |
7 |
MIR FT-IR을 이용한 Si표면의 파티클 정량화 방법 양자현, 임경택, 정주영, 임상우 한국화학공학회 2009년 봄 학술대회 |
6 |
요오드를 용해시킨 메탄올을 이용한 Ge(100) 표면의 산화 이영환, 박기병, 임경택, 임상우 한국화학공학회 2008년 가을 학술대회 |
5 |
자기조립단분자막 (SAM)을 이용한 표면 종단 형성 박기병, 이영환, 임경택, 임상우 한국화학공학회 2008년 가을 학술대회 |
4 |
Characteristics of Methoxy-terminated Ge Surface with Formation Condition and Passivation to Oxidation in Air Ambient 이영환, 임상우, 박기병 한국화학공학회 2008년 봄 학술대회 |
3 |
Modification of Hydrogen-terminated Ge surface to Cl-terminated Ge Surface 박기병, 임상우 한국화학공학회 2007년 가을 학술대회 |
2 |
Oxidation Mechanism of Hydrogen-terminated Ge(100) Surface in Air Ambient and H2O 박기병, 임상우 한국화학공학회 2007년 가을 학술대회 |