화학공학소재연구정보센터
번호 제목
2 Effects of hydrogen and ammonia partial pressure on MOCVD Co/TaNx layer for Cu direct electroplating
박재형, 문대용, 한동석, 윤돈규, 박종완
한국재료학회 2012년 봄 학술대회
1 Co2(CO)8(Dicobalt Octacarbonyl) 전구체를 이용한 MOCVD Co 박막의 균일한 증착 특성 및 높은 순도에 관한 연구|Highly conformal deposition of pure Co films by MOCVD using Co2(CO)8 as a precursor
이정길, 이재갑
한국재료학회 2005년 가을 학술대회