화학공학소재연구정보센터
번호 제목
16 N2/He Plasma Inhibitor 개발을 통한 공간 분할 PE-ALD시스템에서의 메모리 Gap-fill공정 설계
이백주, 서동원, 황재순, 최재욱
한국재료학회 2021년 봄 학술대회
15 Interfacial activation by N2 plasma-assisted mechanochemical reaction in nonpolar polymer
김민성, 방준하, 이상수
한국고분자학회 2019년 봄 학술대회
14 SiNx deposition using CSN-2 and H2 and N2 plasmas by remote plasma atomic layer deposition
Suhyeon Park, Chanwon Jung, Byunguk Kim, Jungwoo Kim, Yurim Kwon, Seokhwi Song, Hyeongtag Jeon
한국재료학회 2019년 봄 학술대회
13 Interfacial Activation by N2 Plasma-assisted Mechanochemical Reaction in Nonpolar Polymer Involved Composite
김민성, 방준하, 이상수
한국고분자학회 2018년 가을 학술대회
12 Characteristics of SiNx thin films by Remote Plasma Atomic Layer Deposition using DTDN2-H2 precursor
임경필, 전형탁, 김현준, 정찬원, 조해원
한국재료학회 2018년 가을 학술대회
11 Atomic Layer Deposition of low-k SiCN Thin Films using DTDN-2 precursor
김현준, 임경필, 정찬원, 조해원, 전형탁
한국재료학회 2018년 가을 학술대회
10 고주파 (162 MHz) 분할전극 플라즈마 소스를 이용한 Silicon nitride (SiNx) 박막의 PEALD 공정에 관한 연구
변지영, 지유진, 김기현, 김기석, 염근영
한국재료학회 2018년 가을 학술대회
9 Low Dimensional Catalysts for Electrochemical Fuel Production: Hydrogen and Ammonia
심욱
한국재료학회 2017년 가을 학술대회
8 Surface analysis of N2 plasma treated sapphire substrate for AlN buffer layer  
정우섭, 김대식, 조승희, 김철, 고현아, 이두원, 안민주, 변동진
한국재료학회 2017년 가을 학술대회
7 Characteristics of Silicon Nitride Deposited by VHF-PECVD using a Multi-tile Push-pull Plasma Source
김기석, 김기현, 지유진, 염근영
한국재료학회 2016년 가을 학술대회