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Photo-Induced phase Transition of Block Copolymer to Fabricate Dual-Pattern Substrate via hydrogen bonding
최청룡, 박지철, 곽종헌, 김상훈, 김진곤
한국고분자학회 2016년 봄 학술대회 |
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Positive type photosensitive polyimide patterning: Effect of photo acid generator(PAG)
김진수, 이미혜, 원종찬, 이성구, 가재원, 도선정
한국고분자학회 2015년 가을 학술대회 |
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Photo-Induced Order-to-Order phase Transition of Block Copolymer to Fabricate Dual-Pattern Substrate
김진곤, 최청룡
한국고분자학회 2015년 가을 학술대회 |
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Antracene 단량체를 포함하는 랜덤 불소공중합체의 합성 및 포토레스트로의 활용.
손종찬, 김영태, 이진균
한국공업화학회 2015년 봄 학술대회 |
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Fabrication of MZI type polymer/ silica hybrid optical sensor using microlithography
이우균, 이무성, 위성유, 정진숙, 김진봉
한국고분자학회 2008년 가을 학술대회 |
| 19 |
A study on the synthesis of fluorinated polymers and application to photoresist for optical wave guide patternig.
정진숙, 위성유, 이우균, 김진봉
한국고분자학회 2007년 가을 학술대회 |
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Micropatterning of MS-PPV homopolymer and its s-triazine copolymer
파라슈람, 김은경, 김유나
한국고분자학회 2007년 가을 학술대회 |
| 17 |
A study on patterning over-cladding using Fluorinated copolymer as a material of planar lightwave circuit(PLC)
이우균, 김영식, 위성유, 정진숙, 김진봉
한국고분자학회 2007년 봄 학술대회 |
| 16 |
Synthesis and evaluation of new photo acid generator(PAG) for EUV Lithography
김연주, 강율, 김학원
한국공업화학회 2007년 가을 학술대회 |
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The Investigation of Defect Generation by Water Droplet on the Chemically Amplified Photoresist
김정훈, 안성일, 김재현, 진왕철
한국고분자학회 2006년 봄 학술대회 |
