| 번호 | 제목 |
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| 7 |
실리콘 웨이퍼 상 금속 오염 세정 공정 연구 이동환, 김민수, 김현태, 최인찬, 장성해, 박진구 한국재료학회 2016년 가을 학술대회 |
| 6 |
Si 웨이퍼 제조 공정 중 발생하는 금속 오염물 및 오염 입자 제거를 위한 세정공정 연구 송희진, 박건호, 장성해, 김민수, 박진구 한국재료학회 2016년 봄 학술대회 |
| 5 |
Phase Shift Mask의 표면개질에 의한 Critical Dimension 변화억제 추혁성, 임상우 한국화학공학회 2013년 가을 학술대회 |
| 4 |
SC1 세정과 Phase Shift Mask의 CD 변화와의 관계 파악 추혁성, 임상우 한국화학공학회 2012년 가을 학술대회 |
| 3 |
과산화수소를 대체하여 고농도의 오존수를 사용한 SC1의 오염물 제거 효율 평가 이승호, 박진구, 이상호, 김태곤, 권태영 한국재료학회 2006년 봄 학술대회 |
| 2 |
RCA 반도체 습식 세정 공정 중 오존을 이용한 SC1 세정을 위한 최적화 연구|The Study of Optimized Process Condition using Ozone for SC1 Solution in RCA Wet Cleaning Process 이승호, 이상호, 김규채, 권태영, 박진구, 배소익, 김인정, 이건호 한국재료학회 2005년 가을 학술대회 |
| 1 |
반도체 습식 세정 공정중 SC1 세정 용액에 킬레이팅 에이전트 첨가에 의한 오염 입자와 금속 오염물 제거 효과|Removal of Particles and Metal Impurities by adding of Chelating Agent onto SC1 Cleaning Solution in Semiconductor Wet Cleaning Process 이승호, 이상호, 권태영, 박진구, 배소익, 김인정, 이건호 한국재료학회 2005년 봄 학술대회 |
