| 번호 | 제목 |
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Comparative study on ALD-WNx process using NH3 plasma and N2/H2 plasma 김준범, 김수현, 홍태은, 유범상 한국재료학회 2015년 봄 학술대회 |
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Ru/Ti bilayer metal electrode를 이용한 게이트 일함수 조절|Workfunction tunability of Ru-Ti bilayer structure for metal gate electrode 고한경, 이태호, 박인성, 김경래, 이상설, 안진호 한국재료학회 2005년 봄 학술대회 |
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고유전물질의 게이트 전극 활용을 위한 TaN, TaSiN의 일함수 및 열안정성|Workfunction and thermal stability of TaN, TaSiN for gate electrodes of high-k dielectrics 김광수, 김영배, 최덕균 한국재료학회 2004년 가을 학술대회 |
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Metal gate 적용을 위한 Mo based electrode의 열적 안정성 평가|Thermal stability of Mo based electrode for metal gate application 이진우, 김지영 한국재료학회 2004년 봄 학술대회 |
