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zinc (Zn), self-polishing copolymers, polyurethane 이강인, 하종운, 황도훈 한국고분자학회 2019년 가을 학술대회 |
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Abrasive size effect on glass CMP using ZrO2 based slurry 김성인, 박재근 한국재료학회 2017년 가을 학술대회 |
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Self-polishing paint with tert-butyldimethylsilyl methacrylate-block-polyurethane-block-tert-butyldimethylsilyl methacrylate triblock copolymer 이창록, 김대희, 조남주 한국공업화학회 2017년 가을 학술대회 |
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tert-Butyldimethylsilyl methacrylate-block-polyurethane-block-tert-butyldimethylsilyl methacrylate triblock copolymer for antifouling paint resin 김봉주, 김대희, 박현, 이인원, 전호환, 조남주 한국고분자학회 2016년 봄 학술대회 |
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Self-polishing behavior of tert-butyldimethylsilyl methacrylate-block-polyurethane-block-tert-butyldimethylsilyl methacrylate triblock copolymer for antifouling paint resin 조남주, 전호환, 이인원, 박현, 김대희, 고현철 한국고분자학회 2015년 가을 학술대회 |
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Comparison of self-polishing copolymer properties based on two type of zinc acrylate monomer 황도훈, 전호환, 박현, 이인원, 김아영, 김선미 한국고분자학회 2015년 가을 학술대회 |
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사파이어웨이퍼 연마에대한 실리카졸 물성의영향Effect of silica sol property on sapphire wafer polishing 이승호, 나호성, 김규수, 김대성 한국재료학회 2015년 봄 학술대회 |
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Self-polishing copolymer based on Zinc monomer containing Acrylic resin using Radical polymerization 한상석, 황도훈, 박현, 전호환 한국고분자학회 2014년 봄 학술대회 |
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Self-polishing polymer based on ZnMA containing Acrylic random copolymer using Radical polymerization 한상석, 황도훈, 박현, 전호환 한국고분자학회 2013년 가을 학술대회 |
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Polishing of sapphire wafer using SiO2/diamond mixed abrasive slurry 이동현, 조경숙, 김대성, 이승호 한국공업화학회 2013년 봄 학술대회 |