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Effect of acid diffusion control on triphenylsulfonium salt bound polymer resist. 정진혁, 박상욱, 이해원 한국고분자학회 2013년 가을 학술대회 |
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Synthesis and Characterization of Triphenylsulfonium Salt Bound Polymer Resist for Fabrication of Nanostructure 정진혁, 이해원, 강하나, 강만규 한국고분자학회 2013년 봄 학술대회 |
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Synthesis and Application of Novel Photoacid Generator Bounding Polymer Resist for Electron Beam Lithography 강하나, 이해원, 권오정, 손경화 한국고분자학회 2012년 봄 학술대회 |
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Triphenylsulfonium Triflate Bound- and Blended-Polymer Resists for Electron Beam Lithography 권오정, 김민정, 손경화, 강하나, 김은광, 이해원 한국고분자학회 2011년 가을 학술대회 |
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Synthesis and Application of Triphenylsulfonium triflate Containing PMMA-Based Resist for Lithography 손경화, 김민정, 이해원 한국고분자학회 2011년 봄 학술대회 |
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Synthesis of Novel Chemically Amplified Photoacid Generator Containing Resist Polymer for Fabrication of Positivetone Nanostructure 김민정, 손경화, 권오정, 강하나, 해먼트 수렌드라 몬드카, 이해원 한국고분자학회 2011년 봄 학술대회 |
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Electrical and Field-Emission Properties of Chemically Assembled Single-Walled Carbon Nanotube Patterns 정명섭, 정성욱, 허정나, 이정희, 김종민, 정희태 한국고분자학회 2005년 가을 학술대회 |