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Control of the contact hole diameter using inductively coupled fluorocarbon and hydrocarbon plasmas 김준현, 조성운, 김창구 한국화학공학회 2011년 봄 학술대회 |
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Detecting pore opening point of anodic alumina via UV-visible spectrophotometer measurement 윤여경, 정수환 한국화학공학회 2011년 봄 학술대회 |
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Highly sensitive gas sensors based on nanostructured TiO2 thin films 장호원, 문희규, 김도홍, 심영석, 윤석진 한국재료학회 2011년 봄 학술대회 |
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Fabrication and Optical Characterization of AlGaN/InGaN Multiple Quantum Well Nanopillar Ultar Violet Light Emitting Diodes 윤재식, 김재관, 이지면 한국재료학회 2011년 봄 학술대회 |
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Preparation of gold electrode on polyimide via modified layer-by-layer deposition of gold nanoparticles 윤태호 한국고분자학회 2010년 가을 학술대회 |
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Real-Time Endpoint Detection for SiO2 Film Plasma Etching Using Impedance Analysis with Modified Principal Component Analysis 장해규, 김대경, 채희엽 한국화학공학회 2010년 가을 학술대회 |
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Effect of CH2F2 addition on angular dependence of SiO2 etching in a C4F6/O2/Ar plasma 조성운, 김창구 한국화학공학회 2010년 가을 학술대회 |
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Comparison of the plasma etching and chemical etching of glass Jungki Lee, Seongjin Hwang, Sungmin Lee, Hyungsun Kim 한국재료학회 2010년 가을 학술대회 |
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Ultra high etch selectivity and variation of line edge roughness during etching of silicon oxynitride with patterned extreme ultra-violet resist resist in dual-frequency capacitively coupled plasmas 권봉수, 이정훈, 이내응 한국재료학회 2010년 가을 학술대회 |
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Angular dependence of SiO2 etch rates in C4F6/Ar/O2 and C4F6/Ar/O2/CH2F2 plasmas 조성운, 김창구 한국화학공학회 2010년 봄 학술대회 |