화학공학소재연구정보센터
번호 제목
74 Control of the contact hole diameter using inductively coupled fluorocarbon and hydrocarbon plasmas
김준현, 조성운, 김창구
한국화학공학회 2011년 봄 학술대회
73 Detecting pore opening point of anodic alumina via UV-visible spectrophotometer measurement
윤여경, 정수환
한국화학공학회 2011년 봄 학술대회
72 Highly sensitive gas sensors based on nanostructured TiO2 thin films
장호원, 문희규, 김도홍, 심영석, 윤석진
한국재료학회 2011년 봄 학술대회
71 Fabrication and Optical Characterization of AlGaN/InGaN Multiple Quantum Well Nanopillar Ultar Violet Light Emitting Diodes
윤재식, 김재관, 이지면
한국재료학회 2011년 봄 학술대회
70 Preparation of gold electrode on polyimide via modified layer-by-layer deposition of gold nanoparticles
윤태호
한국고분자학회 2010년 가을 학술대회
69 Real-Time Endpoint Detection for SiO2 Film Plasma Etching Using Impedance Analysis with Modified Principal Component Analysis
장해규, 김대경, 채희엽
한국화학공학회 2010년 가을 학술대회
68 Effect of CH2F2 addition on angular dependence of SiO2 etching in a C4F6/O2/Ar plasma
조성운, 김창구
한국화학공학회 2010년 가을 학술대회
67 Comparison of the plasma etching and chemical etching of glass
Jungki Lee, Seongjin Hwang, Sungmin Lee, Hyungsun Kim
한국재료학회 2010년 가을 학술대회
66 Ultra high etch selectivity and variation of line edge roughness during etching of silicon oxynitride with patterned extreme ultra-violet resist resist in dual-frequency capacitively coupled plasmas
권봉수, 이정훈, 이내응
한국재료학회 2010년 가을 학술대회
65 Angular dependence of SiO2 etch rates in C4F6/Ar/O2 and C4F6/Ar/O2/CH2F2 plasmas
조성운, 김창구
한국화학공학회 2010년 봄 학술대회