화학공학소재연구정보센터
번호 제목
18 평판형 유도결합 BCl3/CF4 플라즈마를 이용한 GaAs/AlGaAs 선택적 건식 식각|Selective Dry Etching of GaAs over AlGaAs in a Planar Inductively Coupled BCl3/CF4 Plasma
유승열, 장수욱, 박민영, 이장희, 노호섭, 임완태, 이제원, 조관식, 전민현, 송한정, 백인규, 권민철
한국재료학회 2005년 봄 학술대회
17 평판형 유도결합 플라즈마를 이용한 GaAs/AlGaAs 및 GaAs/InGaP의 선택적 및 비선택적 건식식각의 비교|Comparison of Selective and Non-Selective Dry Etching of GaAs/AlGaAs and GaAs/InGaP using Planar Inductively Coupled Plasmas
박민영, 최충기, 류현우, 노호섭, 문준희, 유승열, 임완태, 이제원, 조관식, 전민현, 송한정, 백인규, 권민철, 박건수, 윤진성
한국재료학회 2005년 봄 학술대회
16 F-based 플라즈마를 이용한 GaAs/AlGaAs와 InGaP 반도체의 건식식각에 관한 연구|A study of Dry etching of GaAs over AlGaAs and InGaP Semiconductor in F-based Plasmas
장수욱, 류현우, 최충기, 문준희, 이장희, 유승열, 임완태, 이제원, 전민현, 조관식, 송한정, 백인규, 권민철, 문성진, 신동현
한국재료학회 2005년 봄 학술대회
15 C2F6 유도결합플라즈마(ICP)를 이용한 산화아연(ZnO) 식각에 관한 연구|Inductively coupled plasma reactive ion etching of ZnO using C2F6 gas.
이건교, 이병택
한국재료학회 2005년 봄 학술대회
14 MOCVD를 이용하여 sapphire(0001)에 성장한 Al 함량에 따른 AlGaN/GaN의 특성|Properties of AlGaN/GaN as Al contents grown on sapphire(0001) by MOCVD
박현규, 강호재, 진정근, 연대흠, 최재홍, 김지원, 변동진
한국재료학회 2005년 봄 학술대회
13 산화막 형성과 열처리를 이용한 Si0.77 Ge0.23 박막의 격자 이완|Strain Relaxation of Si0.77 Ge 0.23on Si(100) by Oxide Capping and Thermal Annealing
김현우, 홍석원, 배덕규, 송석찬, 최석, 정승훈, 윤의준
한국재료학회 2004년 봄 학술대회
12 GaN 성장을 위한 이온 주입된 사파이어 기판의 열처리 효과|Thermal Annealing Effects of Ion Implanted Sapphire(0001) Substrate for GaN
강호재, 진정근, 이재석, 박현규, 연대흠, 노대호, 변동진, 고의관, 이재상, 이재형
한국재료학회 2004년 봄 학술대회
11 수소 식각을 이용한 4H-SiC 표면 처리 연구
이승현, 이경선, 남기석
한국화학공학회 2003년 가을 학술대회
10 FBAR 소자제작을 위한 전극막에 따른 ZnO 방향성 연구
최승혁, 김종성
한국화학공학회 2003년 가을 학술대회
9 Laser Molecular Beam Epitaxy system에서 Reflection High Energy Electron Diffraction을 통한 BaTiO3/SrTiO3 산화물 인공격자의 성장과 구조적 분석|The growth and structural analysis of BaTiO3/SrTiO3 oxide artificial lattice by Laser Molecular Beam Epitaxy system combined Reflection High Energy Electron Diffraction
이창훈, 김이준, 전성진, 김주호, 최택집, 이재찬
한국재료학회 2003년 가을 학술대회