| 13 |
초미세 메모리 커패시터의 전극형성을 위한 식각 기술|Patterning issues for the fabrication of sub-micron memory capacitors' electrodes
김현우
한국재료학회 2003년 가을 학술대회 |
| 12 |
C2F6 및 NF3 유도결합플라즈마를 이용한 SiO2 : Ge 식각에관한 연구|Inductively coupled plasma Reactive ion etching of Ge doped silica glass using C2F6 and NF3
이 석 룡, 문 종 하, 김 원 효, 이 병 택
한국재료학회 2003년 가을 학술대회 |
| 11 |
자성 박막의 건식 식각
송영수, 정지원
한국화학공학회 2003년 봄 학술대회 |
| 10 |
FBAR 소자제작을 위한 Patterning 공정 연구
최승혁, 김종성
한국화학공학회 2003년 봄 학술대회 |
| 9 |
블록 공중합체 박막내부에 기억 소자용 자성 금속 함침|Magentic metal inclusion for memory devices in the block copolymer thin films
최대근,권기영,정종률,정희태,신성철,양승만|Dae-Geun Choi,Ki-Young Kwon,Jong-Ryul Jeong,Hee-Tae Jung,Sung-Chul Shin,Seung-Man Yang
한국화학공학회 2002년 가을 학술대회 |
| 8 |
고밀도 플라즈마를 사용한 polysilicon 박막의 nanometer 크기의 패터닝|Nanometer-sized patterning of polysilicon thin films using a high density plasma
변요한,김혜인,송영수,정지원|Yo Han Byun,Hye In Kim,Young Soo Song,Chee Won Chung
한국화학공학회 2002년 가을 학술대회 |
| 7 |
실리콘 표면 유기물과 산화막 제거를 위한 플라즈마 효과|Effect of plasma for the removal of organic and oxide layer on Si surface
소 현,김의열,조일래,전형탁,김영채|Hyun Soh,Ui Yeol Kim,Il Lea Cho,Hyeongtag Jeon,Young Chai Kim
한국화학공학회 2002년 가을 학술대회 |
| 6 |
Cl2/Ar과 C2F6/Ar 가스를 사용한 Polysilicon 박막의 고밀도 플라즈마 식각|High Density Plasma Etching of Polysilicon Thin Film in Cl2/Ar and C2F6/Ar Gases
변요한, 김혜인, 정지원|Yo Han Byun, Hye In Kim, Chee Won Chung
한국화학공학회 2002년 봄 학술대회 |
| 5 |
폴리머의 O2 플라즈마 에칭을 위한 포토레지스트의 실릴화 특성 연구
이길현, 강동수, 김진봉, 이지훈*, 김동훈*
한국고분자학회 2002년 봄 학술대회 |
| 4 |
강유전체 메모리 소자를 위한 Ir 박막의 고밀도 플라즈마 식각|High Density Plasma Etching of Iridium Thin Film for Ferroelectric Random Access Memory
임동규, 정지원|Dongkyu Lim, Chee Won Chung
한국화학공학회 2000년 봄 학술대회 |
