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SrTiO3(111) 기판 표면 termination에 미치는 화학에칭과 소둔시간의 영향|Effects of chemical etching and annealing time on the surface termination of SrTiO3(111) substrates
이용석, 서주형, 박찬경
한국재료학회 2004년 봄 학술대회 |
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EMM PROCESS를 이용하여 SUS304 의 미세채널 형성|Microchannel Fabrication of SUS304 Using EMM Process
신태욱, 강성군
한국재료학회 2003년 가을 학술대회 |
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The effect of microwave wet etching time on chemical and mechanical adhesion properties of the electroless Ni-P plating
강 민, 이승환, 김지만, 김영길, 이재의
한국화학공학회 2003년 봄 학술대회 |
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Angular dependences of etch rates of Si and fluorocarbon polymer in SF6, C4F8, and O2 plasmas for advanced Bosch process
민재호, 이겨레, 이진관, 문상흡
한국화학공학회 2003년 봄 학술대회 |
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SiC상의 무전해 Ni-P 도금시 마이크로파 에칭의 영향에 관한 연구|Study on the Microwave Wet Etching Effect on the Electroless Ni-P Plating of SiC Particles
이승환,강민,이형익,김지만,이재의,김영길|Seung-Hwan Yi,Min Kang,Hyung-Ik Lee,Ji-Man Kim,Jae-Eui Yie,Young-Gil Kim
한국화학공학회 2002년 가을 학술대회 |
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InGaN/GaN 다층양자우물 LED구조의 Cl2/Ar ICP 식각|Inductively Coupled Cl2/Ar Plasma Etching of InGaN/GaN Multiple Quantum well Light-Emitting Diode Structure
박형조, 최창선, 최락준, 홍주형, 한윤봉|H. J. Park, C. S. Choi, R. J. Choi, J. H. Hong, Y. B. Hahn
한국화학공학회 2002년 봄 학술대회 |
