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Oxygen plasma treatments of ITO surface to improve the performance of OLEDs
장선기, 채희엽, 이재원
한국화학공학회 2005년 가을 학술대회 |
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Amorphous silicon hard mask 를 이용한 high selectivity pattern 구현|Fabrication of high selectivity patterns using an a-Si hard mask
조민수, 차남구, 박창화, 임현우, 박진구
한국재료학회 2005년 가을 학술대회 |
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rf 마그네트론 스퍼터링으로 합성한 Zn 나노선과 열산화 처리를 통한 Zn/ZnO 나노케이블의 특성연구|Fabrication of Zn/ZnO nanocables through thermal oxidation of Zn nanowires fabricated by rf magnetron sputtering
김성연, 정민창, 오병윤, 이웅, 명재민
한국재료학회 2005년 가을 학술대회 |
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SiP(System in Package) 조립공정시 소자 Solder 접합부의 접합강도에 미치는 Plasma 공정 변수의 영향|Effects of Plasma Process Parameter on Bond Strength of Component Solder Joints in SiP (System in Package) Assembly Process
송영식, 이용원
한국재료학회 2005년 가을 학술대회 |
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반구 형태로 패턴된 사파이어 기판을 이용한 외부양자효율 개선|Improvement of External Quantum Efficiency Using Hemisphere Patterned Sapphire Substrate
이종재, 김상묵, 김광철, 이상헌, 전성란, 이승재, 김윤석, 백종협, 신동찬
한국재료학회 2005년 가을 학술대회 |
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RF-magnetron sputtering 법으로 성장한 BaTiO3박막의 Annealing 온도변화에 따른 구조적 특성 평가|Evaluation of Annealing Temperature effects on structural properties of BaTiO3 thin film grown by RF-magnetron sputtering
민기득, 김동진, 이종원, 박인용, 김규진
한국재료학회 2005년 가을 학술대회 |
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RF 전력과 산소 유량비에 따른 투명전극용 AZO박막의 특성 비교|Effects of RF power and O2/Ar flow ratio on the properties of AZO thin films for transparent electrodes deposited by RF magnetron sputtering
임근빈, 박민우, 이종무
한국재료학회 2005년 가을 학술대회 |
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Dry Etching of SiO2 with C2F6 Plasma in an ICP Process: Numerical Study with a CFD Code
서승택, 이광순, 양대륙, 최범규
한국화학공학회 2005년 봄 학술대회 |
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플라즈마 기상 증착법에 의한 보론카바이드 박막의 RF 변화에 따른 효과|Effect of Boron carbide thin films with RF power by plasma enhanced chemical vapor deposition
연대흠, 진정근, 김길영, 강호재, 박현규, 변동진
한국재료학회 2005년 봄 학술대회 |
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Effect of Ammonia Plasma on HCHO Removal of Activated Carbons
서동일, 박수진
한국공업화학회 2004년 가을 학술대회 |
