화학공학소재연구정보센터
번호 제목
27 Numerical Analysis of Capacitively Coupled Plasma Driven by Dual RF Power Sources
김헌창, 황일선
한국공업화학회 2004년 가을 학술대회
26 유도 결합 플라즈마 반응성 이온식각을 이용한 NbOx nanodot의 식각 메카니즘 연구
박익현, 이장우, 정지원
한국공업화학회 2004년 가을 학술대회
25 The application of atmospheric pressure plasma on the surface cleaning
정미희, 권오준, 양인영, 최호석
한국화학공학회 2004년 가을 학술대회
24 Dry Etching of SiO2 with C2F6 Plasma in an ICP Process: Numerical Study with a CFD Code
서승택, 이용희, 이광순
한국화학공학회 2004년 가을 학술대회
23 RF 마그네트론 스퍼터를 이용한 Er3+ 도핑된 텅스텐-텔루라이트 유리 박막의 제조 및 광학적 특성평가|Fabrication of Er3+-doped Tungsten-Tellurite Glass Thin Films using Radio Frequency Magnetron Sputtering Method and Optical Property Characterization
유기영, 신상훈, 문종하, 김진혁
한국재료학회 2004년 가을 학술대회
22 CFD-ACE를 이용한 ICP-RIE공정의 전산모사
이용희, 이광순
한국화학공학회 2004년 봄 학술대회
21 대기압 플라즈마를 이용하여 Si-wafer photoresist 제거실험에 관한 연구
정미희, 최호석
한국화학공학회 2004년 봄 학술대회
20 TCP-PECVD를 이용한 n-type 마이크로결정질 실리콘 박막형성에 공정조건이 미치는 영향|The Effect of Process Conditions for Formation of n-type Microcrystalline Silicon Thin Films by TCP-PECVD
이형철, 이유진, 신진국, 염근영
한국재료학회 2004년 봄 학술대회
19 RF 마그네트론 스퍼터를 이용한 Er3+ 도핑된 텅스텐-텔루라이트 유리 박막의 제조 및 광학적 특성평가|Fabrication of Er3+-doped Tungsten-Tellurite Glass Thin Films using Radio Frequency Magnetron Sputtering Method and Optical Property Characterization
유기영, 신상훈, 문종하, 김진혁
한국재료학회 2004년 봄 학술대회
18 Silicon oxide deposition by atmospheric-pressure PECVD in a circulating fluidized bed reactor
박상민, 정순화, 박성희, 김상돈
한국화학공학회 2003년 가을 학술대회