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번호	제목
25	Study on characteristics of cobalt film deposited by Remote Plasma ALD method 김근준, 이근우, 한세진, 정우호, 배규열, 전형탁 한국재료학회 2006년 봄 학술대회
24	HfO₂/SiO_xN_y/Si 게이트 구조의 열처리에 따른 열적 안정성과 전기적 특성\|Thermal Stability and Electrical Characteristics on Annealing of HfO₂/SiO_xN_y/Si Gate Dielectric Structure 최지훈, 김석훈, 강현석, 우상현, 홍형석, 전형탁 한국재료학회 2005년 가을 학술대회
23	Co/Ni 복합실리사이드의 FIB를 이용한 나노배선 구조의 형상 분석\|Characterization of Nano Interconnect Structure in Co/Ni Composite Silicide using on FIB 김상엽, 송오성 한국재료학회 2005년 가을 학술대회
22	아몰퍼스실리콘의 결정화에 따른 복합티타늄실리사이드의 물성변화\|Property of Composite Titanium Silicide on Amorphous and Crystalline Silicon Sunstrates 김상엽 한국재료학회 2005년 가을 학술대회
21	Interfacial properties of ultra thin Hf_xSi_1-xO₂ films grown by ALCVD using Hf(N(C₂H₅)₂)₄ and Si(OC₄H₉)₄ for CMOS application 김재현, 용기중 한국화학공학회 2005년 봄 학술대회
20	게이트를 상정한 코발트니켈 복합 실리사이드의 물성과 미세구조\|Property and Microstructure Evolution of the Cobalt Nickel Composite Silicides for Gate Application 김상엽, 송오성, 정영순 한국재료학회 2005년 봄 학술대회
19	실리콘 나이트라이드 완충층을 가지는 ZnO 박막의 특성 평가\|Characterization of ZnO films with Si₃N₄ buffer on Si (001) substrates 정철원, 한석규, 심재호, 김홍승, 조형균, 김효진, 홍순구 한국재료학회 2005년 봄 학술대회
18	ZnO 박막의 구조 및 광 특성에 미치는 스퍼터링 산소분압 및 플라즈마 세기효과\|Effects of sputtering oxygen partial pressures and power on structural and optical properties ZnO films on SiO₂/Si (001) substrates 한석규, 최준호, 심재호, 조형균, 김효진, 홍순구 한국재료학회 2005년 봄 학술대회
17	TiO₂ 박막의 다층 증착에 의한 Re-RAM 특성 변화\|Characterization of TiO₂ deposited layer by layer for Re-RAM 김경래, 이태호, 박인성, 고한경, 안진호 한국재료학회 2005년 봄 학술대회
16	Pt/SrBi₂Nb₂O₉/Pt/Y₂O₃/Si 게이트 구조를 가지는 MFMISFET 의 제작 및 특성\|Fabrication and characterization of MFMISFETs with Pt/SrBi₂Nb₂O₉/Pt/Y₂O₃/Si gate structure. 김익수, 심선일, 김용태, 최인훈 한국재료학회 2005년 봄 학술대회