화학공학소재연구정보센터
번호 제목
15 Atomic Layer Chemical Vapor Deposition and Characterization of Hafnium Silicate Films
김재현, 용기중
한국화학공학회 2004년 가을 학술대회
14 Tetrakis-diethylamido hafnium, trimethyl aluminum 그리고 water을 이용한 hafnia-alumina nano laminate 박막의 원자층 화학증착
김석훈, 이시우
한국화학공학회 2004년 가을 학술대회
13 Solid phase reaction을 통해 제조한 HfSiON 의 특성|Characterization of HfSiON as gate dielectrics fabricated by solid phase reaction
고한경, 이태호, 김철성, 안진호
한국재료학회 2004년 가을 학술대회
12 후속 열처리가 ALD로 성막된 Al2O3 박막의 유전특성에 미치는 영향|Effect of Post-Treatments on Electrical/Dielectric Properties of Al2O3 Thin Films Deposited by Atomic Layer Deposition
소병수, 김성문, 황진하, 김영환, 조원태, 안기석
한국재료학회 2004년 가을 학술대회
11 Laser를 이용하지 않는 비정질 실리콘 박막의 극저온결정화|Extremely low-temperature crystallization of amorphous silicon film using non-laser crystallization process
신종배, 김병수, 최덕균
한국재료학회 2004년 봄 학술대회
10 Cu/Ti(TiN)/NiSi 전극구조 PN 접합의 전기적 특성에 관한 연구|A Study on Electrical Characteristics of PN Junction with Cu/Ti(TiN)/NiSi Electrodes
유정주, 이근우, 배규식
한국재료학회 2004년 봄 학술대회
9 SiO2/CVD-HfAlO/Pt-electrode gate 구조에서 H-termination효과 및 전기적 특성의 관찰|H-termination effect and electrical property of SiO2/CVD-HfAlO/Pt-electrode gate stack
최지훈, 이치훈, 박재후, 이석우, 황철성, 김형준
한국재료학회 2003년 가을 학술대회
8 반응성 스퍼터링을 이용한 Co-N 박막 형성 및 이를 이용한 CoSi2 에피층 성장|Formation of Co-N film using reactive sputtering of Co and growth of epitaxial CoSi2 using the Co-N film
이승렬, 김선일, 안병태
한국재료학회 2003년 가을 학술대회
7 Pt 박막히터에 의해 결정화시킨 PZT 박막의 전기적 특성|The electrical properties of crystallized PZT thin films by Pt thin film heater
송남규, 김병동, 박정호, 윤종인, 정인영, 주승기
한국재료학회 2003년 가을 학술대회
6 직접접합 Si3N4∥SiO2 실리콘 기판쌍의 선형가열에 의한 보이드결함 제거|Eliminating Voids using a Fast Linear Annealing in Direct Bonded Si/Si3N4∥SiO2/Si Wafer Paires
정영순, 송오성
한국재료학회 2003년 가을 학술대회