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Atomic Layer Chemical Vapor Deposition and Characterization of Hafnium Silicate Films 김재현, 용기중 한국화학공학회 2004년 가을 학술대회 |
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Tetrakis-diethylamido hafnium, trimethyl aluminum 그리고 water을 이용한 hafnia-alumina nano laminate 박막의 원자층 화학증착 김석훈, 이시우 한국화학공학회 2004년 가을 학술대회 |
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Solid phase reaction을 통해 제조한 HfSiON 의 특성|Characterization of HfSiON as gate dielectrics fabricated by solid phase reaction 고한경, 이태호, 김철성, 안진호 한국재료학회 2004년 가을 학술대회 |
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후속 열처리가 ALD로 성막된 Al2O3 박막의 유전특성에 미치는 영향|Effect of Post-Treatments on Electrical/Dielectric Properties of Al2O3 Thin Films Deposited by Atomic Layer Deposition 소병수, 김성문, 황진하, 김영환, 조원태, 안기석 한국재료학회 2004년 가을 학술대회 |
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Laser를 이용하지 않는 비정질 실리콘 박막의 극저온결정화|Extremely low-temperature crystallization of amorphous silicon film using non-laser crystallization process 신종배, 김병수, 최덕균 한국재료학회 2004년 봄 학술대회 |
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Cu/Ti(TiN)/NiSi 전극구조 PN 접합의 전기적 특성에 관한 연구|A Study on Electrical Characteristics of PN Junction with Cu/Ti(TiN)/NiSi Electrodes 유정주, 이근우, 배규식 한국재료학회 2004년 봄 학술대회 |
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SiO2/CVD-HfAlO/Pt-electrode gate 구조에서 H-termination효과 및 전기적 특성의 관찰|H-termination effect and electrical property of SiO2/CVD-HfAlO/Pt-electrode gate stack 최지훈, 이치훈, 박재후, 이석우, 황철성, 김형준 한국재료학회 2003년 가을 학술대회 |
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반응성 스퍼터링을 이용한 Co-N 박막 형성 및 이를 이용한 CoSi2 에피층 성장|Formation of Co-N film using reactive sputtering of Co and growth of epitaxial CoSi2 using the Co-N film 이승렬, 김선일, 안병태 한국재료학회 2003년 가을 학술대회 |
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Pt 박막히터에 의해 결정화시킨 PZT 박막의 전기적 특성|The electrical properties of crystallized PZT thin films by Pt thin film heater 송남규, 김병동, 박정호, 윤종인, 정인영, 주승기 한국재료학회 2003년 가을 학술대회 |
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직접접합 Si3N4∥SiO2 실리콘 기판쌍의 선형가열에 의한 보이드결함 제거|Eliminating Voids using a Fast Linear Annealing in Direct Bonded Si/Si3N4∥SiO2/Si Wafer Paires 정영순, 송오성 한국재료학회 2003년 가을 학술대회 |