| 192 |
Top surface imaging process by selective chemisorption of diphenyl siloxane derivatives.
김현희, 우승아, 김진백
한국고분자학회 2011년 가을 학술대회 |
| 191 |
Ultralarge-area block copolymer lithography using self-assembly assisted photoresist pre-pattern
진형민, 김상욱
한국고분자학회 2011년 가을 학술대회 |
| 190 |
Deterministic Nanotexturing by Directional Photofluidization Lithography
이승우, 이지혜, 강홍석, 강성욱, 박정기
한국고분자학회 2011년 봄 학술대회 |
| 189 |
Chiral Nematic Fluids as Dynamic Masks for Lithography
정현수, 김윤호, 이지선, 김정현, 정희태
한국고분자학회 2011년 봄 학술대회 |
| 188 |
Non-Photoresist Lithographic Materials: From Assisting to Enabling New Processes
Ralph R. Dammel
한국고분자학회 2011년 봄 학술대회 |
| 187 |
The Effect of Macromolecular Architecture on the Performance of Photoresists for Advanced Semiconductor Manufacture
George G. Barclay
한국고분자학회 2011년 봄 학술대회 |
| 186 |
Polymeric Materials for Extreme UV Lithography
김재현, 이재우, 오승근, 이정열, 김정식
한국고분자학회 2011년 봄 학술대회 |
| 185 |
Photoresists for Interface and Thin Layer Imaging Processes
김진백
한국고분자학회 2011년 봄 학술대회 |
| 184 |
Patterning Block Copolymer through Conventional 193 nm ArF Lithography and subsequent thermal flow
문정호, 박승학, 신동옥, 김봉훈, 문형석, 김주영, 김상욱
한국고분자학회 2011년 봄 학술대회 |
| 183 |
Nanoporous Templates with High Aspect Ratio Using Silicon-Containing Block Copolymers and Dual Responsive Photoresists
박창홍, 김진백, 구세진, 조경천
한국고분자학회 2011년 봄 학술대회 |
