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번호	제목
36	코발트/니켈 복합 실리사이드의 Metal Contact 건식식각 안정성\|Dry Etch Stability with Co/Ni Composite Silicide 정영순, 송오성 한국재료학회 2004년 봄 학술대회
35	감광성 전도체 페이스트와 감광성 유전체 페이스트를 Series process 에 적용하여 공정 조건에 따른 multi-layer 구조 구현\|Effect of process parameters on fabrication of multi layer structure using photoimageable dielectric and photoimageable conductor paste utilizing series process 유명재, 이상명, 유찬세, 박성대, 박종철 한국재료학회 2004년 봄 학술대회
34	SiO2 hard mask를 이용한 자성 박막의 건식 식각 송영수, 신 별, 정지원 한국화학공학회 2003년 가을 학술대회
33	고종횡비 실리콘 트랜치 건식식각 공정에 관한 연구\|Profile control of high aspect ratio silicon trench etch using SF6/O2/BHr plasma chemistry 함동은, 신수범, 안진호 한국재료학회 2003년 가을 학술대회
32	TFT-LCD array에 FALC 공정을 적용한 채널영역의 저온결정화 연구\|Low Temperature Poly-Si Crystallization of Channel Region in TFT-LCD Array using FALC Process 김윤수, 최덕균 한국재료학회 2003년 가을 학술대회
31	Ni 금속 촉매를 이용한 비정질 실리콘 박막의 결정화에서의 전계의 영향\|Influence of the electric field on the crystallization of amorphous silicon thin film using Ni catalyst 강선미, 최덕균 한국재료학회 2003년 가을 학술대회
30	C₂F₆ 및 NF₃ 유도결합플라즈마를 이용한 SiO₂ : Ge 식각에관한 연구\|Inductively coupled plasma Reactive ion etching of Ge doped silica glass using C₂F₆ and NF₃ 이 석 룡, 문 종 하, 김 원 효, 이 병 택 한국재료학회 2003년 가을 학술대회
29	전자산업의 강판재료를 식각하는 공정에서의 반응수율 향상을 위한 기술 개발 박진수, 정재학, 이문용, 소원섭, 이창윤 한국화학공학회 2003년 봄 학술대회
28	사진 식각 공정을 이용한 all polymer micro-DMFC 제조 공정에 관한 연구 차혜연, 최후곤, 남재도, 이영관, 조성민, 이은숙, 이정규, 정찬화 한국화학공학회 2003년 봄 학술대회
27	INVAR 강 염화철 구액의 중금속 분리/회수공정 개발 박무룡, 박재호, 송민철, 박진호 한국화학공학회 2003년 봄 학술대회