화학공학소재연구정보센터
번호 제목
14 MRAM 응용을 위한 자기박막의 고밀도 플라즈마 식각|High-Density Plasma Etching of Magnetic Films for MRAM Applications
박형조,한윤봉|Hyung-Jo Park,Yoon-Bong Hahn
한국화학공학회 2002년 가을 학술대회
13 Cl2/Ar과 C2F6/Ar 가스를 사용한 Polysilicon 박막의 고밀도 플라즈마 식각|High Density Plasma Etching of Polysilicon Thin Film in Cl2/Ar and C2F6/Ar Gases
변요한, 김혜인, 정지원|Yo Han Byun, Hye In Kim, Chee Won Chung
한국화학공학회 2002년 봄 학술대회
12 InGaN/GaN 다층양자우물 LED구조의 Cl2/Ar ICP 식각|Inductively Coupled Cl2/Ar Plasma Etching of InGaN/GaN Multiple Quantum well Light-Emitting Diode Structure
박형조, 최창선, 최락준, 홍주형, 한윤봉|H. J. Park, C. S. Choi, R. J. Choi, J. H. Hong, Y. B. Hahn
한국화학공학회 2002년 봄 학술대회
11 Magnetic Nanopatterns from Monolayer Films of Diblock Copolymer Micelles with Oxygen Plasma Treatment
윤상현, 유성일, 손병혁
한국고분자학회 2002년 가을 학술대회
10 Nanopattern Fabrication Using Monolayer Films ofDiblock Copolymer Micelles with Plasma Etching
윤상현, 김태현, 손병혁
한국고분자학회 2002년 봄 학술대회
9 고밀도 플라즈마를 이용한 Y-Ba-Cu-O 초전도체 식각 및 소자 제작|High Density Plasma Etching of Y-Ba-Cu-O Superconductor and Device Application
임연호,한윤봉,강형곤,한병선|Y. H. Im,Y. B. Hahn,H. G. Kang,B. S. Han
한국화학공학회 2001년 가을 학술대회
8 분자모델링 기법을 이용한 Si3N4 표면의 플라즈마 식각 현상 해석|Molecular Dynamics Simulations of Plasma Etching of Si3N4 Surface
이승엽,김동호,김도현|Seung Yup Lee,Dong Ho Kim,Do Hyun Kim
한국화학공학회 2001년 가을 학술대회
7 고밀도 플라즈마를 이용한 식각공정에서 기판 온도상승에 관한 연구|Wafer Heating Effects during High Density Plasma Etching
임연호, 최창선, 김태희, 박진수, 한윤봉|Yeon Ho Im, Chang Sun Choi, Tae Hee Kim, Jin Soo Park, Yoon Bong Hahn
한국화학공학회 2001년 봄 학술대회
6 Cl2/Ar 유도 결합 플라즈마를 이용한 SiC박막 식각특성|Etching of SiC Thin Films in Cl2/Ar Inductively Coupled Plasmas
최창선, 임연호, 박진수, 김태희, 한윤봉|C. S. Choi, Y. H. Im, J. S. Park, T. H. Kim, Y. B. Hahn
한국화학공학회 2001년 봄 학술대회
5 DMFC의 메탄올 crossover 감소를 위한 전해질 막의 개질에 관한 연구|Modification of Proton Conducting Membrane for Reducing Methanol Crossover in DMFC
최원춘, 김주담, 우성일|Won Choon Choi, Ju Dam Kim, Seong Ihl Woo
한국화학공학회 2000년 가을 학술대회