| 182 |
Synthesis of Novel Chemically Amplified Photoacid Generator Containing Resist Polymer for Fabrication of Positivetone Nanostructure
김민정, 손경화, 권오정, 강하나, 해먼트 수렌드라 몬드카, 이해원
한국고분자학회 2011년 봄 학술대회 |
| 181 |
HybridBlock Copolymer Lithographyfor UltraLarge Area PatterningCombined withDisposable Photoresist Prepatterning
김주영, 정성준, 문형석, 김봉훈, 김상욱
한국고분자학회 2011년 봄 학술대회 |
| 180 |
High Resolution Bilayer Resists Using Blends of Photoresists and Silicon-Containing Materials
우승아, 김진백
한국고분자학회 2011년 봄 학술대회 |
| 179 |
Llithographically defined 3D carbon microstructures
김영찬, 문준혁
한국화학공학회 2011년 가을 학술대회 |
| 178 |
Formation of hole-pattern TiO2 layer for Dye-sentisized solar cell’s photoelectrode with SU-8 photoresist
김상진, 노동규, 서진아, 전하림, 김종학
한국화학공학회 2011년 봄 학술대회 |
| 177 |
Synthesis of star-shaped copolymers with acid-cleavable cross-linkers for ArF photoresist by reversible addition-fragmentation chain transfer (RAFT) polymerization
이애리, 손해성, 김동균, 이재우, 김정식, 김재현, 이종찬
한국공업화학회 2011년 봄 학술대회 |
| 176 |
Preparation of Acid-Cleavable Branched Polymers: Control in Size of Primary Chains, Degree of Branching, and Composition Distribution
손해성, 김동균, 이애리, 이재우, 김정식, 김재현, 이종찬
한국공업화학회 2011년 봄 학술대회 |
| 175 |
A simple patterning method of solution-processed ZnO thin film fortransparent thin film transistors
김경준, 김주희, 유승철, 박시윤, 이지현, 정성윤, 조한주, 김연상
한국고분자학회 2010년 가을 학술대회 |
| 174 |
Synthesis of branched polymer with acid-degradative crosslinkers as ArF photoresist by reversible addition-fragmentation chain transfer (RAFT) polymerization
이애리, 손해성, 김동균, 이종찬
한국고분자학회 2010년 가을 학술대회 |
| 173 |
Fabrication and the ApplicationsofThree-Dimensional Polymeric/Ceramic Structures
장지현, Edwin L Thomas
한국고분자학회 2010년 봄 학술대회 |
