화학공학소재연구정보센터
번호 제목
421 Optimization of the plasma-enhanced atomic layer deposition process for NiO film
지수현, 장우성, 김도형
한국화학공학회 2017년 가을 학술대회
420 Ni/KIT-6 촉매를 이용한 Tricyclopentadiene의 수소화반응에 관한 연구  
유용인, 최원준, 채수현, 박유리, 조도현, 한정식, 권태수, 전종기
한국화학공학회 2017년 가을 학술대회
419 Thin film encapsulation using iCVD and ALD
김봉준, 박홍근, 이영일, 심현정, 임성갑
한국화학공학회 2017년 봄 학술대회
418 Moisture barrier property of oraganic-inorganic multilayer for foldable OLED displays
한진택, 이학수, 함성보, 조성민
한국화학공학회 2017년 봄 학술대회
417 Insigts of Spinel Ferrite coated Hematite nanostrusctures in solar water splitting : Mechanistic study using Atomic Layer Deposition
Seenivasan Selvaraj, 김도형, 지수현, 장우성
한국화학공학회 2017년 봄 학술대회
416 Butene 혼합물의 Oligomerization을 통한 항공유 합성에서 Ni/ZSM-5 Zeolite가 미치는 영향
이동건, 오소향, 전종기
한국화학공학회 2017년 봄 학술대회
415 In-Situ Electrochemical Activation of MoS2 Basal Planes with Atomic Layer Deposition Technique for Efficient Hydrogen Evolution Reaction
이대원, 김영민, David H. K. Jackson, 김태완, 정순용, 채호정, Thomas F. Kuech, 김형주
한국화학공학회 2017년 봄 학술대회
414 반도체 증착공정의 원료물질 TEMAZ와 반응부산물의 열안정성
한인수, 최이락
한국화학공학회 2017년 봄 학술대회
413 Atomic Layer Deposited MoS2 on Self-Supported Metallic Substrates as Replacement of Pt Electrocatalysts for Hydrogen Evolution
신현정
한국재료학회 2017년 봄 학술대회
412 The effect of plasma treatment during deposition process on remote plasma atomic layer deposited silicon nitride for charge trap layer
장우출, 김현정, 권영균, 신석윤, 임희우, 정찬원, 조해원, 전형탁
한국재료학회 2017년 봄 학술대회