화학공학소재연구정보센터
번호 제목
4 FRAM 소자 응용을 위한 SrBi2Ta2O9 박막의 고밀도 플라즈마 식각|High Density Plasma Etching of SrBi2Ta2O9 Thin Films for FRAM pplication
박진수, 임연호, 최창선, 한윤봉|Jin Soo Park, Yeon Ho Im, Chang Sun Choi, Yoon-Bong Hahn
한국화학공학회 2000년 가을 학술대회
3 고밀도 플라즈마를 이용한 반도체 재료 식각기술|Etching Technology of Semiconductor Materials in High Density Plasmas
한윤봉|Yoon Bong Hahn
한국화학공학회 2000년 봄 학술대회
2 강유전체 메모리 소자를 위한 Ir 박막의 고밀도 플라즈마 식각|High Density Plasma Etching of Iridium Thin Film for Ferroelectric Random Access Memory
임동규, 정지원|Dongkyu Lim, Chee Won Chung
한국화학공학회 2000년 봄 학술대회
1 Cl2/Ar 유도결합 플라즈마를 이용한 GaN 박막의 식각|Inductively Coupled Plasma Etching of GaN Films with Cl2/Ar Discharges
한윤봉|Bum-Chul Cho, Yeon-Ho Im, Jin-Soo Park, Yoon Bong Hahn
한국화학공학회 2000년 봄 학술대회