| 172 |
Use of photo-patterned polymeric microparticles with SU-8 photoresist to create “shape-coded cell array”
남승희, 이열, 박상필, 장은지, 박새미, 이현종, 손경진, 이영민, 박영하, 고원건
한국고분자학회 2010년 봄 학술대회 |
| 171 |
Soft Graphoepitaxy of Block Copolymer Assembly with Disposable Photoresist Confinement
문형석, 정성준, 김지은, 김봉훈, 김상욱
한국고분자학회 2010년 봄 학술대회 |
| 170 |
Directed Assembly of Block Copolymer via Soft-Graphoepitaxy
정성준, 문형석, 김주영, 김봉훈, 김상욱
한국고분자학회 2010년 봄 학술대회 |
| 169 |
Synthesis of branched polymer as ArF photoresist by reversible addition-fragmentation chain transfer (RAFT) polymerization
손해성, 김동균, 이애리, 이종찬
한국고분자학회 2010년 봄 학술대회 |
| 168 |
Poly (styrene-ran-glycidyl methacrylate) as Low-Shrinkage Photoresist for Holographic Lithographically Fabricated 3D Photonic Crystals
전환철, 박성규, 허철준, 한슬기, 양승만
한국고분자학회 2010년 봄 학술대회 |
| 167 |
Photoresist for Sequential Photo-Patterning and Thermo-Cure
조영욱, 김수민, 김진백
한국고분자학회 2010년 봄 학술대회 |
| 166 |
Depth profiling of UV curable coatings by FT-IR spectroscopy
이석진, 이창순, 이건우, 정연욱, 오성준
한국고분자학회 2010년 봄 학술대회 |
| 165 |
Post Ion Implanted Photoresist Stripping Using Supercritical Carbon Dioxide
김민성, 임종성, 유기풍
한국화학공학회 2010년 가을 학술대회 |
| 164 |
정렬된 SnO2 나노선 전계효과트랜지스터를 이용한구부림이 가능한 Active Matrix 소자 제작
홍상기, 하정숙
한국화학공학회 2010년 가을 학술대회 |
| 163 |
Efficient stripping of photoresist on post metal etched wafer using a CO2-Pulse flow of supercritical fluid
김민성, 임종성, 유기풍
한국화학공학회 2010년 봄 학술대회 |
