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TEOS/O2 플라즈마 반응기에서 실리카 미립자 성장분석|Analysis on Silica Particle Growth in TEOS/O2 Plasma Reactor 홍성택, 김동주, 김교선|Sung-Taik Hong, Dong-Joo Kim, Kyo-Seon Kim 한국화학공학회 2002년 봄 학술대회 |
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ALCVD를 이용한 Zirconium Silicate 박막의 증착 특성|Deposition Properties of Zirconium Silicate thin Film using ALCVD 이시우, 김원규, 강상우, 이내인, 이종호, 강호규|Shi-Woo Rhee, WonKyu Kim, SangWoo Kang, Nae-In Lee, Jong-Ho Lee, Ho-Kyu Kang 한국화학공학회 2002년 봄 학술대회 |
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ICP type 이온건을 이용한 실리콘 표면의 원자층 식각{{Theories and Applications of Chem. Eng., 2002, Vol. 8, No. 1}}|Layer-by-layer etching of Silicon wafer by ICP type ion source 정세훈, 최지영, 조성민|Sae Hoon Chung, Jee Young Choi, Sungmin Cho 한국화학공학회 2002년 봄 학술대회 |
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나노기공을 함유한 poly(organosilsesquioxane)의 제조 및 특성분석|Synthesis of Nanoporous Poly(organosilsesquioxane) 민성규, 박재만, 송기태, 진문영, 이진규, 차국헌, 윤도영, 이희우|Sung-Kyu Min, Jae-Mann Park, Kitae Song, Moon Young Jin, Jin-Kyu Lee, Kookheon Char, Do Yeung Yoon, Hee-Woo Rhee 한국화학공학회 2002년 봄 학술대회 |
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TFT-LCD용 액정배향막의 개발 현황 오재민, 이미혜* 한국고분자학회 2002년 가을 학술대회 |
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N2 및 O2 플라즈마를 이용한 SiO2 2단계 증착 공정|SiO2 two step deposition using N2 or O2 plasma treatment 이청, 이시우|Chung Yi, Shi-Woo Rhee 한국화학공학회 2001년 봄 학술대회 |
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구리배선 저유전물질로 사용되는 유기실리케이트 공중합체의 미세기계적 물성 연구|A Study on Micromechanical Properties of Low Dielectric Organosilicate Copolymers 김대환, 주상현, 차국헌, 이진규, 윤도영, 한준희|Daehwan Kim, Sang-Hyon Chu, Kookheon Char, Jin-Kyu Lee, Do. Y. Yoon, Jun-Hee Hah 한국화학공학회 2000년 가을 학술대회 |
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SiO2와 Si 표면에서의 수소 원자 재결합 확률값의 수치적 해석에 의한 측정|Hydrogen Atom Recombination at SiO2 and Si Surface 문수현, 김영채, 문세기|Su Hyun Mun, Young Chai Kim, Sei-Ki Moon 한국화학공학회 2000년 봄 학술대회 |
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Metylsilsesquioxane 반도체 저유전 층간 절연막 재료의 졸-겔 합성|The Synthesis of Methylsilsesquiixane low-k dielectrics by sol-gel method 이정훈, 석상일, 이창진, 진문영, 강영구, 서태수, 홍석인|Jung-Hoon Lee, Sang-Il Seok, Chang-Jin Lee, Moon-Young Jin, Yong-Ku Kang, Tae-Soo Suh, Seok-In Hong 한국화학공학회 2000년 봄 학술대회 |
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초고 집적회로에서 층간 절연막으로 사용하기 위한 저 유전체 박막물질 증착|Deposition of Low Dielectric Constant Material for Intermetal Dielectric Applications in ULSI Circuits 김동선|Dong S. Kim 한국화학공학회 1999년 봄 학술대회 |