화학공학소재연구정보센터
번호 제목
128 ZnSnO thin film growth by using atomic layer deposition and applying to buffer layer for CIGS solar cells
김선철, 권혁상, 안병태
한국재료학회 2014년 가을 학술대회
127 Electrical Characterization of Atomic Layer Deposited La2O3 Capped HKMG Devices
임동환, 정우석, 최창환
한국재료학회 2014년 가을 학술대회
126 Electrical Properties of Aluminium Oxide Gate Dielectric Grown by Atomic Layer Deposition at Different Growth Temperture
김예균, 안철현, 윤명구, 조성운, 조형균
한국재료학회 2014년 가을 학술대회
125 Atomic layer deposition for advanced Cu metallization
Soo-Hyun Kim
한국재료학회 2014년 봄 학술대회
124 Investigation about TaN diffusion barrier properties of Cu gate TFT with Al2O3 and HfO2 gate insulator
김동현, 김형준, 우황제, 남태욱, 정한얼
한국재료학회 2014년 봄 학술대회
123 Characteristics of Low Temperature Al2O3 Encapsulation for Organic Devices by Remote Plasma Atomic Layer Deposition
오주홍, 최학영, 신석윤, 박주현, 함기열, 최용혁, 전형탁
한국재료학회 2014년 봄 학술대회
122 Al/SWCNT bilayer 전극을 적용한 TTFT 접촉 저항 특성향상 (Improvement of TTFT contact resistance using the Al / SWCNT bilayer electrode)
이수정, 김윤철, 이태일, 명재민
한국재료학회 2014년 봄 학술대회
121 Self-forming Ti oxide barrier for nanoscale Cu interconnects created by hybrid atomic layer deposition (ALD) of Cu-Ti alloy
박재형, 한동석, 강민수, 박종완
한국재료학회 2014년 봄 학술대회
120 Study on the impact of local doping on the electrical characteristics of ZnO thin films
정윤장, 이영국, 이창완, 강성구, 최원진, 이정오, 공기정
한국재료학회 2014년 봄 학술대회
119 Self-forming Ti oxide barrier for nanoscale Cu interconnects created by hybrid atomic layer deposition (ALD) of Cu-Ti alloy

한국재료학회 2014년 봄 학술대회