화학공학소재연구정보센터
번호 제목
40 Plasma Power Effect on Carbon Nanotube Growth in Tubular Inductively Coupled Plasma Reactor
이재원, 채희엽
한국화학공학회 2006년 봄 학술대회
39 Effects of the ion mass and the ion incident angle on etch rates in atomic scale etching
박창한, 이형무, 윤형진, 김태호, 신치범, 김창구
한국화학공학회 2006년 봄 학술대회
38 Cl2/Ar 가스를 이용한 ZnO 박막의 유도 결합 플라즈마 반응성 이온 식각
민수련, 이장우, 조한나, 정지원
한국화학공학회 2006년 봄 학술대회
37 Inductively coupled plasma reactive ion etching of ZnO using C2F6 and BCl3-based gas Plasmas
강동진, 이건교, 이병택
한국재료학회 2006년 봄 학술대회
36 In vitro study of β-TCP/PLGA composites prepared with Microwave Energy
진형호, 민상호, 이향미, 현용택, 박홍채, 윤석영
한국재료학회 2006년 봄 학술대회
35 A comparative study on deep Si etching using PFC- and UFC-containing Plasmas
이형무, 박창한, 김창구
한국공업화학회 2006년 가을 학술대회
34 HBr/Ar 플라즈마를 이용한 ZnO 박막에 대한 식각 특성
민수련, 정지원, 이장우, 조한나
한국공업화학회 2006년 봄 학술대회
33 고밀도 유도결합 플라즈마를 이용한 IrRu 박막의 식각 특성
이장우, 박익현, 정지원
한국공업화학회 2005년 가을 학술대회
32 Etch characteristics of GeSbTe thin films by inductively coupled plasma reactive ion etching
박익현, 이장우, 정지원
한국공업화학회 2005년 가을 학술대회
31 전처리 방법에 따른 마이크로플루트골판지의 유해 중금속 비교 분석
조병묵, 정명준, 김봉주, 홍승철
한국공업화학회 2005년 가을 학술대회