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Plasma Power Effect on Carbon Nanotube Growth in Tubular Inductively Coupled Plasma Reactor 이재원, 채희엽 한국화학공학회 2006년 봄 학술대회 |
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Effects of the ion mass and the ion incident angle on etch rates in atomic scale etching 박창한, 이형무, 윤형진, 김태호, 신치범, 김창구 한국화학공학회 2006년 봄 학술대회 |
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Cl2/Ar 가스를 이용한 ZnO 박막의 유도 결합 플라즈마 반응성 이온 식각 민수련, 이장우, 조한나, 정지원 한국화학공학회 2006년 봄 학술대회 |
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Inductively coupled plasma reactive ion etching of ZnO using C2F6 and BCl3-based gas Plasmas 강동진, 이건교, 이병택 한국재료학회 2006년 봄 학술대회 |
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In vitro study of β-TCP/PLGA composites prepared with Microwave Energy 진형호, 민상호, 이향미, 현용택, 박홍채, 윤석영 한국재료학회 2006년 봄 학술대회 |
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A comparative study on deep Si etching using PFC- and UFC-containing Plasmas 이형무, 박창한, 김창구 한국공업화학회 2006년 가을 학술대회 |
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HBr/Ar 플라즈마를 이용한 ZnO 박막에 대한 식각 특성 민수련, 정지원, 이장우, 조한나 한국공업화학회 2006년 봄 학술대회 |
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고밀도 유도결합 플라즈마를 이용한 IrRu 박막의 식각 특성 이장우, 박익현, 정지원 한국공업화학회 2005년 가을 학술대회 |
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Etch characteristics of GeSbTe thin films by inductively coupled plasma reactive ion etching 박익현, 이장우, 정지원 한국공업화학회 2005년 가을 학술대회 |
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전처리 방법에 따른 마이크로플루트골판지의 유해 중금속 비교 분석 조병묵, 정명준, 김봉주, 홍승철 한국공업화학회 2005년 가을 학술대회 |