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La2O3/HfO2 나노 층상구조를 이용한 MIM capacitor의 특성 향상 오일권, 김민규, 박주상, 김형준 한국재료학회 2012년 봄 학술대회 |
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Organic Field Effect Transistors with Polymer/Inorganic Nanocomposite Gate Dielectrics 양상윤, 김세현, 신권우, 전하영, 박찬언 한국고분자학회 2005년 봄 학술대회 |
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Tris(2,2,6,6-tetramethyl-3,5-heptanedionato) neodymium 을 이용한 Nd oxide 박막의 액체직접주입방식(DLI) 유기금속화학증착|Direct liquid injection metal organic chemical vapor deposition of Nd oxide films using Tris(2,2,6,6-tetramethyl-3,5-heptanedionato) neodymium 송문균, 이시우 한국재료학회 2004년 가을 학술대회 |
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원자층 증착 방법에 의한 실리콘 질화막 특성에 관한 연구|The Characteristics of Silicon Nitride Thin Film by Atomic Layer Deposition 천민호, 한창희, 김운중, 이원준, 이연승, 나사균 한국재료학회 2004년 가을 학술대회 |
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CMOS 적용을 위하여 질소플라즈마 효과를 이용한 초박막 HfO2 게이트 유전체의 전기적, 신뢰성 특성 평가|Electrical and reliability characteristics of ultra-thin HfO2 gate dielectrics by N2 plasma treatment for CMOS application 김전호, 최규정, 윤순길, 이원재, 김진동 한국재료학회 2004년 가을 학술대회 |
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LSMCVD 공정으로 제조한 BST 박막의 저온 결정화|Crystallization at Low Temperature of BST Thin Films Prepared by LSMCVD 박진, 정현진, 박승빈, 우성일|Jin Park, Hyun Jin Chung, Seung Bin Park, Seong Il Woo 한국화학공학회 1998년 봄 학술대회 |