화학공학소재연구정보센터
번호 제목
6 La2O3/HfO2 나노 층상구조를 이용한 MIM capacitor의 특성 향상
오일권, 김민규, 박주상, 김형준
한국재료학회 2012년 봄 학술대회
5 Organic Field Effect Transistors with Polymer/Inorganic Nanocomposite Gate Dielectrics
양상윤, 김세현, 신권우, 전하영, 박찬언
한국고분자학회 2005년 봄 학술대회
4 Tris(2,2,6,6-tetramethyl-3,5-heptanedionato) neodymium 을 이용한 Nd oxide 박막의 액체직접주입방식(DLI) 유기금속화학증착|Direct liquid injection metal organic chemical vapor deposition of Nd oxide films using Tris(2,2,6,6-tetramethyl-3,5-heptanedionato) neodymium
송문균, 이시우
한국재료학회 2004년 가을 학술대회
3 원자층 증착 방법에 의한 실리콘 질화막 특성에 관한 연구|The Characteristics of Silicon Nitride Thin Film by Atomic Layer Deposition
천민호, 한창희, 김운중, 이원준, 이연승, 나사균
한국재료학회 2004년 가을 학술대회
2 CMOS 적용을 위하여 질소플라즈마 효과를 이용한 초박막 HfO2 게이트 유전체의 전기적, 신뢰성 특성 평가|Electrical and reliability characteristics of ultra-thin HfO2 gate dielectrics by N2 plasma treatment for CMOS application
김전호, 최규정, 윤순길, 이원재, 김진동
한국재료학회 2004년 가을 학술대회
1 LSMCVD 공정으로 제조한 BST 박막의 저온 결정화|Crystallization at Low Temperature of BST Thin Films Prepared by LSMCVD
박진, 정현진, 박승빈, 우성일|Jin Park, Hyun Jin Chung, Seung Bin Park, Seong Il Woo
한국화학공학회 1998년 봄 학술대회