| 번호 | 제목 |
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45 nm 테크놀로지와 그 이후를 위한 금속계 나노 박막의 원자층 증착법|ALD of metal nanofilms for 45 nm technology and beyond 김형준 한국재료학회 2005년 봄 학술대회 |
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Hf(O-iPr)4를 이용하여 원자층증착한 HfO2 박막의 특성분석 김정찬, 허정식, 조용석, 문상흡 한국화학공학회 2004년 가을 학술대회 |
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이차원 콜로이드 결정과 자기조립 단 분자 막을 이용한 주기적 표면 나노 구조체 제작|Fabrication of Periodic Array Nanostructures by Two-Dimensional Colloidal Crystals and Self-Assembled Monolayers 배창득, 신현정, 문주호, 성명모 한국재료학회 2004년 가을 학술대회 |
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원자층 증착 방법에 의한 실리콘 질화막 특성에 관한 연구|The Characteristics of Silicon Nitride Thin Film by Atomic Layer Deposition 천민호, 한창희, 김운중, 이원준, 이연승, 나사균 한국재료학회 2004년 가을 학술대회 |
