화학공학소재연구정보센터
번호 제목
11 초임계 이산화탄소와 반도체 세정 첨가제 혼합물의 상거동
권세호, 한갑수, 유기풍, 임종성
한국화학공학회 2006년 봄 학술대회
10 과산화수소를 대체하여 고농도의 오존수를 사용한 SC1의 오염물 제거 효율 평가
이승호, 박진구, 이상호, 김태곤, 권태영
한국재료학회 2006년 봄 학술대회
9 초임계 이산화탄소를 이용한 건식 웨이퍼 세정시 이산화탄소와 chemical간의 상거동 연구
김태형, 김진우, 한갑수, 임종성, 유기풍
한국화학공학회 2005년 가을 학술대회
8 초임계 이산화탄소를 이용한 건식 웨이퍼 세정시 이산화탄소와 chemical간의 상거동 연구
김태형, 김진우, 임종성, 유기풍
한국화학공학회 2005년 봄 학술대회
7 초임계 이산화탄소를 이용한 웨이퍼 세정시 이산화탄소와 stripper의 용해도 특성 연구
이선진, 김태형, 임종성, 유기풍
한국화학공학회 2005년 봄 학술대회
6 실리콘웨이퍼의 65nm Particle 제어|Polished Silicon Wafer Cleaning - 65 nm Size Particle Control
배기만
한국재료학회 2004년 가을 학술대회
5 실리콘 웨이퍼 공정에서 in-situ 표면 및 기상특성
소 현, 김영채
한국화학공학회 2003년 가을 학술대회
4 초임계 이산화탄소를 이용한 웨이퍼 세정|wafer cleaning by using supercritical carbon dioxide
한기현,김선영,유기풍|Ky-Hyun Han,Sun Young Kim,Ki-Pung Yoo
한국화학공학회 2002년 가을 학술대회
3 초임계 이산화탄소를 이용한 웨이퍼 세정|Wafer Cleaning Using Supercritical Carbon Dioxide
오봉환, 김선태, 이창용, 임교빈|Bong-Hwan Oh, Sun-Tae Kim, Chang-Yong Lee, Gio-Bin Lim
한국화학공학회 2000년 가을 학술대회
2 SiO2와 Si 표면에서의 수소 원자 재결합|Hydrogen Atom Recombination at SiO2 and Si Surface
문수현, 이기형, 소현, 김영채, 문세기|Su Hyun Mun, Ki Hyung Lee, Hyun Soh, Young Chai Kim, Sei-Ki Moon
한국화학공학회 2000년 가을 학술대회