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솔-젤 공정을 통한 고유전 박막 제조 및 특성 평가
김석준, 강동준, 한동희, 강동필
한국고분자학회 2008년 가을 학술대회 |
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용액에 포함된 Amine과 Carboxyl group의 Cu식각잔류물 제거특성
고천광, 김아름, 손향호, 이원규
한국화학공학회 2008년 가을 학술대회 |
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박막 무기 EL 소자의 구조 및 전기 광학 특성
조용, 정윤철, 박희원, 금태일, 김숙경, 이상문, 이윤수, 권혁용, 박이순
한국공업화학회 2008년 봄 학술대회 |
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Effect of Annealing on Dielectric of Properties BZN Thin Films
송병익, 이인형, 이정원, 이승은
한국재료학회 2007년 가을 학술대회 |
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RF magnetron sputter로 성장시킨 고유전 TiO2:SiO2 박막의 특성(Properties of high-k TiO2:SiO2 films grown by RF magnetron sputter)
김성연, 오병윤, 함문호, 명재민
한국재료학회 2006년 봄 학술대회 |
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플라즈마 처리에 의한 임베디드 케패시터용 유전 박막의 유전 특성 영향|The effect on the dielectric constant of embedded thin film capacitor by plasma treatment
송원훈, 임성택, 강형동, 정율교
한국재료학회 2005년 봄 학술대회 |
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TiO2 박막의 다층 증착에 의한 Re-RAM 특성 변화|Characterization of TiO2 deposited layer by layer for Re-RAM
김경래, 이태호, 박인성, 고한경, 안진호
한국재료학회 2005년 봄 학술대회 |
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고분자 gate 절연막을 이용한 유기 반도체 트랜지스터
조은나리, 임상철, 이정헌, 김성현, 정태형
한국고분자학회 2004년 가을 학술대회 |
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후속 열처리가 ALD로 성막된 Al2O3 박막의 유전특성에 미치는 영향|Effect of Post-Treatments on Electrical/Dielectric Properties of Al2O3 Thin Films Deposited by Atomic Layer Deposition
소병수, 김성문, 황진하, 김영환, 조원태, 안기석
한국재료학회 2004년 가을 학술대회 |
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SiO2/CVD-HfAlO/Pt-electrode gate 구조에서 H-termination효과 및 전기적 특성의 관찰|H-termination effect and electrical property of SiO2/CVD-HfAlO/Pt-electrode gate stack
최지훈, 이치훈, 박재후, 이석우, 황철성, 김형준
한국재료학회 2003년 가을 학술대회 |
