번호 | 제목 |
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9 |
외부전기장 적용 필터의 초미세입자 제거 특성 박현설 한국화학공학회 2010년 가을 학술대회 |
8 |
Nano size의 CO2 Gas cluster를 이용한 반도체 건식 세정에서 오염입자 제거와 미세 패턴 damage에 관한 연구 김민수, 강봉균, 이승호, 정지현, 윤덕주, 박진구 한국재료학회 2010년 가을 학술대회 |
7 |
메가소닉 주파수의 변화가 나노입자제거에 미치는 영향 김혁민, 강봉균, 이승호, 김정인, 이희명, 박진구 한국재료학회 2009년 가을 학술대회 |
6 |
반도체 세정액 내 용존 수소 가스가 웨이퍼 세정에 미치는 영향 김혁민, 강봉균, 이승호, 박진구, 최은석, 김인정, 김봉우 한국재료학회 2009년 봄 학술대회 |
5 |
이중 선회유동 스크러버의 입자 제거효율 임경수, 이시훈, 박현설 한국화학공학회 2008년 봄 학술대회 |
4 |
오존수를 이용한 실리콘 웨이퍼 연마 후 지용성 왁스 제거 효율 및 습식 세정 공정의 최적화에 관한 연구 이재환, 이승호, 김태곤, 박진구 한국재료학회 2007년 봄 학술대회 |
3 |
레이저 충격파 특성에 의한 나노입자 제거효율에 미치는 영향 유영삼, 김태곤, 손일룡, 박진구 한국재료학회 2007년 봄 학술대회 |
2 |
레이저 충격파 세정 동안 오염입자들과 웨이퍼 표면 사이에서 작용 하는 adhesion 과 capiaalry force에 관한 연구 이재환, 강영재, 이상호, 홍의관, 박진구, 이종명 한국재료학회 2006년 봄 학술대회 |
1 |
수식셀룰라아제의 탈묵공정을 이용한 재생지 물성향상에 관한 연구Ⅱ|Improvement of physical properties of the recycled paper by deinking process with modified celluase (II) 박진원, 박귀남, 이병준, 박유경|Park, J. W., Park, K. N., Lee, B. J., Park, Y. K. 한국화학공학회 1997년 봄 학술대회 |