화학공학소재연구정보센터
번호 제목
37 Enclathration of NF3 and c-C4F8 molecules in gas hydrates and their thermodynamic and cage filling characteristics
김은애, 서용원
한국화학공학회 2016년 가을 학술대회
36 Effect of bias voltage on the angular dependence of SiO2 etch rates in fluorocarbon plasmas
박정근, 김준현, 김창구
한국화학공학회 2016년 봄 학술대회
35 Effect of the dual synchronous pulsed plasma on the etch characteristics of SiO2
이호석, 양경채, 박성우, 염근영
한국재료학회 2016년 봄 학술대회
34 Angular dependence of Si3N4 etch rates in fluorocarbon plasmas
김준현, 조성운, 김창구
한국화학공학회 2015년 봄 학술대회
33 Effect of bias voltage on the angular dependence of SiO2 etch rates in C4F8 plasmas
김준현, 조성운, 김창구
한국화학공학회 2015년 봄 학술대회
32 Effect of gas composition on the angular dependence of SiO2 etch rates in fluorocarbon plasmas
박정근, 김준현, 조성운, 김창구
한국화학공학회 2015년 봄 학술대회
31 Enhancement of rate performance in lithium-ion battery by C4F8 plasma treatment on PCNF/GPCNF anode
장정식, 이충현, 서영덕
한국공업화학회 2015년 가을 학술대회
30 Increased rate performance of natural/synthetic graphite anode in lithium-ion battery via C4F8 plasma treatment
장정식, 이경섭, 서영덕
한국공업화학회 2015년 가을 학술대회
29 유량변화에 따른 다양한 불화가스의 폴리설폰 중공사막 분리성능평가
김상우
한국화학공학회 2014년 가을 학술대회
28 Angular dependence of SiO2 etch rate in fluorocarbon plasmas
김준현, 조성운, 김창구
한국화학공학회 2014년 가을 학술대회