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Enclathration of NF3 and c-C4F8 molecules in gas hydrates and their thermodynamic and cage filling characteristics 김은애, 서용원 한국화학공학회 2016년 가을 학술대회 |
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Effect of bias voltage on the angular dependence of SiO2 etch rates in fluorocarbon plasmas 박정근, 김준현, 김창구 한국화학공학회 2016년 봄 학술대회 |
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Effect of the dual synchronous pulsed plasma on the etch characteristics of SiO2 이호석, 양경채, 박성우, 염근영 한국재료학회 2016년 봄 학술대회 |
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Angular dependence of Si3N4 etch rates in fluorocarbon plasmas 김준현, 조성운, 김창구 한국화학공학회 2015년 봄 학술대회 |
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Effect of bias voltage on the angular dependence of SiO2 etch rates in C4F8 plasmas 김준현, 조성운, 김창구 한국화학공학회 2015년 봄 학술대회 |
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Effect of gas composition on the angular dependence of SiO2 etch rates in fluorocarbon plasmas 박정근, 김준현, 조성운, 김창구 한국화학공학회 2015년 봄 학술대회 |
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Enhancement of rate performance in lithium-ion battery by C4F8 plasma treatment on PCNF/GPCNF anode 장정식, 이충현, 서영덕 한국공업화학회 2015년 가을 학술대회 |
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Increased rate performance of natural/synthetic graphite anode in lithium-ion battery via C4F8 plasma treatment 장정식, 이경섭, 서영덕 한국공업화학회 2015년 가을 학술대회 |
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유량변화에 따른 다양한 불화가스의 폴리설폰 중공사막 분리성능평가 김상우 한국화학공학회 2014년 가을 학술대회 |
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Angular dependence of SiO2 etch rate in fluorocarbon plasmas 김준현, 조성운, 김창구 한국화학공학회 2014년 가을 학술대회 |