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Study of etching rate according to the type of oxidizers and concentration of each oxidizer in tungsten CMP
최지호, 김동협, 정기쁨, 박재근
한국재료학회 2016년 가을 학술대회 |
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다양한 조성 및 물리적 특성을 가진 Glass 기판의 연마 특성 비교
한광민, 조병준, 이정환, 조시형, 서영길, 박진구
한국재료학회 2016년 봄 학술대회 |
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Si 웨이퍼 제조 공정 중 발생하는 금속 오염물 및 오염 입자 제거를 위한 세정공정 연구
송희진, 박건호, 장성해, 김민수, 박진구
한국재료학회 2016년 봄 학술대회 |
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Optical Properties of Highly Concentrated Colloidal Suspension with Silica/Quantum dots/Silica Hybrid Particles
전형준, 박진모, 이강택
한국화학공학회 2015년 봄 학술대회 |
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The novel method for determination of nanoparticle aggregation in high concentrated colloids using silica/quantum dot/silica particles
전형준, 이강택
한국화학공학회 2014년 가을 학술대회 |
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Study of Slurry pH and Oxidizer on Ge-doped SbTe for High Speed PRAM CMP
Jun-Hee Shin, Jong Woong Baek, Sang Hwa Woo, Jin Hyung Park, Jea Gun Park
한국재료학회 2013년 가을 학술대회 |
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Effects of functional groups in corrosion inhibitors on the performance of chemical mechanical polishing
이상원, 김명준, 배기호, 김재정
한국화학공학회 2013년 봄 학술대회 |
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Si-wafer wet etching 시 etching time, etching temperature, 불산 및 질산 농도가 etching rate에 미치는 영향
김준우, 김범준, 이현용, 정지훈, 이윤관, 이상민, 이상현, 고성우, 노재승
한국재료학회 2012년 가을 학술대회 |
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Study of Slurry pH and oxidizer on Ge-doped SbTe film in PRAM CMP
Soo-Beom Kima, Jong-Young Cho, Jae-Hyung Lima, Hee-Sub Hwang, Jin-Hyung Park, Eung-rim Hwang, Jea-Gun Park
한국재료학회 2012년 가을 학술대회 |
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Role of H2O2 as oxidizer on the Ge-doped SbTe film for Chemical Mechanical polishing
Sang-Hwa Woo, Jea-Gun Park, Jong-Young Cho, Hao Cui, Eung-Rim Hwang, Jin-Hyung Park
한국재료학회 2012년 가을 학술대회 |
