| 20 |
Feasibility study of solvent recycle in carbon-spin on hard mask material
정현재, 양대륙, 박기호
한국화학공학회 2014년 가을 학술대회 |
| 19 |
Puled Plasma를 이용하여60 MHz/2 MHz Dual-Frequency Capacitive coupled plasma에서 SiO2의 식각특성에 관한 연구
염근영, 전민환, 김회준
한국재료학회 2013년 봄 학술대회 |
| 18 |
High Density Plasma Etching of IrMn Thin Films in a HBr/Ar Plasma
이태영, 이일훈, 이광희, 정지원
한국화학공학회 2012년 봄 학술대회 |
| 17 |
A Study of Hard-Mask using Organic-inorganic Hybrid Materials
유제정, 송재동, 이성구, 이경균, 황석호, 김상범
한국고분자학회 2010년 가을 학술대회 |
| 16 |
Hybrid hard mask with single layer to apply spin-on process
송재동, 유제정, 이성구, 이경균, 김상범
한국공업화학회 2010년 봄 학술대회 |
| 15 |
사파이어 기판에 sub-micron급 패터닝을 위한 나노 임프린트 리소그래피 공정
박형원, 변경재, 홍은주, 이헌
한국재료학회 2009년 봄 학술대회 |
| 14 |
Crosslinkable Polynorbornene with Phenylethynyl Groups for the Trilayer Photoresist System
우희제, 오세원, 차국헌
한국화학공학회 2008년 봄 학술대회 |
| 13 |
The Study of Plasma Damage on Wafer Side Wallin Metal Etch Process
함태석, 최정동
한국공업화학회 2008년 가을 학술대회 |
| 12 |
하드 마스크(Hard mask) 제작을 위한 TiN 박막의 증착에 관한 연구
이도영, 정지원
한국공업화학회 2008년 봄 학술대회 |
| 11 |
ArF resist와 EUV resist의 식각특성 비교
권봉수, 이학주, 김선일, 이내응, 이성권
한국재료학회 2007년 가을 학술대회 |
