| 번호 | 제목 |
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저유전체 SiCFO 박막의 PECVD 제조 및 특성|Properties of Low-k SiCFO Films Prepared by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition 김태희, 한윤봉|Tae-Hee Kim, Yoon-Bong Hahn 한국화학공학회 2002년 봄 학술대회 |
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Preparation of Processible Polysilsesquioxane Terpolymers for LSI Interlayer Dielectrics with Low Dielectric Constant 김형은, 노현욱, 김운천, 이진규, 차국헌*, 이희우**, 윤도영 한국고분자학회 2002년 봄 학술대회 |
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층간절연체로 사용을 위한 저유전율 재료|Low Dielectric Constant Materials for ILD Applications 김의정|Eui Jung Kim 한국화학공학회 1999년 봄 학술대회 |
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[2.2]Paracyclophane의 열분해에 의한 poly-p-xylxylene 박막의 증착|Deposition of poly-p-xylylene films by pyrolysis of [2.2]paracyclophane 김철진, 김의정|Chul Jin Kim, Eui Jung Kim 한국화학공학회 1998년 가을 학술대회 |
