| 번호 | 제목 |
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ArF resist와 EUV resist의 식각특성 비교 권봉수, 이학주, 김선일, 이내응, 이성권 한국재료학회 2007년 가을 학술대회 |
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Effect of water-contact on the roughness of patterned photoresist investigated by AFM analysis 안성일, 김재현, 진왕철 한국고분자학회 2005년 가을 학술대회 |
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ArF lithography에서 발생하는 patterning issue를 극복하기 위한 new lithography 방법에 대한 연구|Study on the new lithography scheme for overcoming the patterning issue be generated in ArF lithography process 황재성, 안진호 한국재료학회 2004년 가을 학술대회 |
