| 번호 | 제목 |
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다이렉트 플라즈마와 리모트 플라즈마 원자층 증착법으로 증착한 하프늄 산화막의 물리적, 전기적 특성에 관한 연구|The Characteristics of HfO2 Thin High-k Gate Oxide Deposited by Direct and Remote Plasma Atomic Layer Deposition Methods. 김인회, 국승우, 김석훈, 전형탁 한국재료학회 2005년 가을 학술대회 |
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RF-스퍼터링 성장된 Al-Ta 박막의 박막특성 및 발열특성|Physical Properties and Heating Characteristics of RF-Sputtered Al-Ta Thin Films 송대권, 이광섭, 박기남, 박인용, 이종원, 김규진, 남궁홍준 한국재료학회 2004년 봄 학술대회 |
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Surface Analysis of Biodegradable Polymer Thin Films 이원기 한국고분자학회 2002년 봄 학술대회 |
